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J-GLOBAL ID：200903007016128902

分光分析装置

Inventor：
石見 憲一

About 石見 憲一

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河端 真一

About 河端 真一

, 
岸田 博

About 岸田 博

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片山 良行

About 片山 良行


Applicant, Patent owner：
株式会社クボタ

About 株式会社クボタ


Agent (1)： 北村 修一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000296856
Publication number (International publication number)：2002107294
Application date： Sep. 28, 2000
Publication date： Apr. 10, 2002
Summary：
【要約】【課題】 計測精度を向上させることが可能となる分光分析装置を提供する。【解決手段】 計測対象箇所に位置する被計測物Mに光を照射する投光手段1と、被計測物Mからの透過光を分光してその分光した光を電荷蓄積式の受光センサ18にて受光して、分光スペクトルデータを得る受光手段2と、各部の動作を制御するとともに、分光スペクトルデータに基づいて被計測物Mの内部品質を解析する制御手段3とを備え、内部品質を解析するための分光スペクトルデータを計測する本計測処理を実行する前に、計測対象となる被計測物Mに光を照射して透過光から受光データを得る予備計測処理を実行し、その予備計測処理にて得られた受光データに基づいて、受光センサ18の電荷蓄積量が設定適正量となるように本計測処理を実行するときの電荷蓄積時間を変更調整する。
Claim (excerpt)：
計測対象箇所に位置する被計測物に光を照射する投光手段と、前記被計測物からの透過光又は反射光を分光してその分光した光を電荷蓄積式の受光センサにて受光して、分光スペクトルデータを得る受光手段と、各部の動作を制御するとともに、前記分光スペクトルデータに基づいて被計測物の内部品質を解析する制御手段とを備えて構成されている分光分析装置であって、前記制御手段が、前記内部品質を解析するための前記分光スペクトルデータを計測する本計測処理を実行する前に、計測対象となる被計測物に光を照射して被計測物からの透過光又は反射光を分光してその分光した光を受光して受光データを得る予備計測処理を実行するように構成され、且つ、前記予備計測処理にて得られた受光データに基づいて、前記受光センサの電荷蓄積量が設定適正量となるように、前記本計測処理を実行するときの前記電荷蓄積時間を変更調整する、又は、前記本計測処理を実行するときの前記投光手段の投光強度を変更調整するように構成されている分光分析装置。
IPC (3)：
G01N 21/35 ,  G01N 21/85 ,  G01N 33/02
FI (3)：
G01N 21/35 Z ,  G01N 21/85 A ,  G01N 33/02
F-Term (30)：
2G051AA05 ,  2G051AB06 ,  2G051AC21 ,  2G051BA06 ,  2G051BA20 ,  2G051BC03 ,  2G051CA03 ,  2G051CC07 ,  2G051DA06 ,  2G051EA09 ,  2G051EA24 ,  2G051EA25 ,  2G059AA01 ,  2G059BB11 ,  2G059DD12 ,  2G059EE01 ,  2G059EE12 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ02 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ14 ,  2G059JJ23 ,  2G059JJ26 ,  2G059KK04 ,  2G059MM01 ,  2G059MM05 ,  2G059MM14 ,  2G059NN08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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