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J-GLOBAL ID:200903007317286597
常圧プラズマガスノズル体
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
河備 健二
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000369533
Publication number (International publication number):2002173779
Application date: Dec. 05, 2000
Publication date: Jun. 21, 2002
Summary:
【要約】【課題】 大気圧条件下で安定した放電状態を実現でき、しかも大量のプラズマガスを発生できる常圧プラズマガスノズル体の提供。【解決手段】 大気圧近傍の圧力下、対向する電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該対向する電極間に処理ガスを導入しパルス状の電界を印加することにより発生するプラズマを被処理体に吹きつけるノズル体であって、ケーシング内に複数のプレート状電極を櫛歯状に交互に設置した複数の放電空間を有するプラズマ発生部、処理ガス導入部及びプラズマガス吹き出し部を備えてなることを特徴とする常圧プラズマガスノズル体。
Claim (excerpt):
大気圧近傍の圧力下、対向する電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該対向する電極間に処理ガスを導入し電界を印加することにより発生するプラズマを被処理体に吹きつけるノズル体であって、ケーシング内に複数のプレート状電極を櫛歯状に交互に設置した複数の放電空間を有するプラズマ発生部、処理ガス導入部及びプラズマガス吹き出し部を備えてなることを特徴とする常圧プラズマガスノズル体。
IPC (4):
C23C 16/455
, B01J 19/08
, B01J 19/26
, H05H 1/34
FI (4):
C23C 16/455
, B01J 19/08 H
, B01J 19/26
, H05H 1/34
F-Term (30):
4G075AA24
, 4G075BC04
, 4G075BD03
, 4G075CA47
, 4G075DA01
, 4G075EB43
, 4G075EC01
, 4G075EC21
, 4G075FC15
, 4K030AA06
, 4K030AA09
, 4K030AA11
, 4K030AA13
, 4K030AA14
, 4K030AA18
, 4K030BA28
, 4K030BA29
, 4K030BA30
, 4K030BA39
, 4K030BA40
, 4K030BA42
, 4K030BA45
, 4K030BA47
, 4K030BA48
, 4K030BB03
, 4K030EA05
, 4K030EA11
, 4K030JA09
, 4K030KA30
, 4K030KA46
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
-
プラズマエッチング装置およびエッチングの方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-377836
Applicant:株式会社ケミトロニクス
-
プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-045836
Applicant:株式会社フロンテック
-
プラズマ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-363082
Applicant:田中栄
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