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J-GLOBAL ID:200903007522851558
表示装置およびその製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
芝野 正雅
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000368253
Publication number (International publication number):2001318622
Application date: Dec. 04, 2000
Publication date: Nov. 16, 2001
Summary:
【要約】【課題】 表示電極形成後も水分およびガスが液晶層および配向膜に浸入するのを防止することが可能で、かつ、表示電極の構成材料の分解を抑制することが可能な表示装置を得ること。【解決手段】 表示電極4の形成後に、表示電極4の表面上に、フッ化インジウム(InFX)を主成分とする第1層34およびフッ化炭素(CFX)を主成分とする第2層35が形成されている。また、表示電極4の形成後に、表示電極4により覆われていない絶縁膜31の表面に、フッ素終端層33が形成されている。こうすることで、表示電極4の形成後も、絶縁膜31および表示電極4の水分およびガスに対する透過防止効果が向上され、その結果、表示電極4の形成後も、基板側から液晶層3または配向膜36aに水分およびガスが放出されるのを防止することができる。
Claim (excerpt):
基板上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成された表示電極と、前記表示電極の表面および前記絶縁膜の表面上に形成され、電気陰性度の大きな不純物元素を含む不純物導入層とを備えたことを特徴とした表示装置。
IPC (5):
G09F 9/30 330
, G02F 1/1333 505
, G02F 1/1343
, G02F 1/1368
, H01L 21/316
FI (5):
G09F 9/30 330 Z
, G02F 1/1333 505
, G02F 1/1343
, H01L 21/316 P
, G02F 1/136 500
F-Term (33):
2H090HB03X
, 2H090HB15X
, 2H092GA29
, 2H092HA19
, 2H092HA28
, 2H092JA24
, 2H092JA37
, 2H092JA41
, 2H092JA46
, 2H092JB61
, 2H092KA04
, 2H092KB25
, 2H092MA08
, 2H092NA04
, 2H092NA17
, 2H092NA25
, 5C094AA31
, 5C094AA38
, 5C094AA43
, 5C094AA44
, 5C094BA03
, 5C094BA43
, 5C094CA19
, 5C094DA15
, 5C094FB15
, 5F058BA07
, 5F058BB07
, 5F058BD01
, 5F058BD06
, 5F058BD13
, 5F058BD16
, 5F058BD18
, 5F058BH16
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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液晶表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-017190
Applicant:株式会社日立製作所
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特開平2-265738
-
特開平1-185617
-
液晶表示装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-327113
Applicant:シャープ株式会社
-
表示装置および表示装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-196779
Applicant:三洋電機株式会社
-
薄膜素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-212554
Applicant:富士通株式会社
-
薄膜半導体装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-084658
Applicant:セイコーエプソン株式会社
-
マトリクス液晶表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-266690
Applicant:オプトレックス株式会社
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