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J-GLOBAL ID：200903007626941800

光重合性組成物、ネガ型感光性レジスト組成物及びレジストパターン形成方法

Inventor： 小嶋 大輔 ,  今井 玄児 ,  木暮 英雄 ,  磯崎 理
Applicant, Patent owner： 関西ペイント株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998236680
Publication number (International publication number)：2000063451
Application date： Aug. 24, 1998
Publication date： Feb. 29, 2000
Summary：

【要約】【課題】 光重合性組成物、ネガ型感光性レジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】 下記した構成単位【化5】(式中、Aはポリイソシアネート化合物に由来する残基、Bは同一もしくは異なってそれぞれの分子末端に1個以上の光重合性不飽和基を有するヒドロキシ化合物に由来する残基及びR1はカルボキシル基含有ポリオール化合物に由来する残基を示す。nは1〜10整数を示す。)を有する光重合性ポリウレタン化合物を含有することを特徴とする光重合性組成物。

Claim (excerpt)：

下記した構成単位【化1】(式中、Aはポリイソシアネート化合物に由来する残基、Bは同一もしくは異なってそれぞれの分子末端に2個以上の光重合性不飽和基を有するヒドロキシ化合物に由来する残基及びR1はカルボキシル基含有ポリオール化合物に由来する残基を示す。nは1〜10整数を示す。)を有する光重合性ポリウレタン化合物を含有することを特徴とする光重合性組成物。

IPC (4)：

C08F290/06 ,  C08F 2/48 ,  G03F 7/027 513 ,  G03F 7/40 521

FI (4)：

C08F290/06 ,  C08F 2/48 ,  G03F 7/027 513 ,  G03F 7/40 521

F-Term (89)：

2H025AA06 ,  2H025AB15 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC14 ,  2H025BC66 ,  2H025FA17 ,  2H096AA26 ,  2H096BA05 ,  2H096EA04 ,  2H096GA09 ,  4J011AC04 ,  4J011QA02 ,  4J011QA03 ,  4J011QA07 ,  4J011QA13 ,  4J011QA17 ,  4J011QA18 ,  4J011QA19 ,  4J011QA23 ,  4J011QA24 ,  4J011QA25 ,  4J011QB16 ,  4J011QB20 ,  4J011QB23 ,  4J011RA03 ,  4J011RA07 ,  4J011RA10 ,  4J011SA02 ,  4J011SA06 ,  4J011SA07 ,  4J011SA22 ,  4J011SA32 ,  4J011SA33 ,  4J011SA52 ,  4J011SA62 ,  4J011SA63 ,  4J011SA64 ,  4J011SA74 ,  4J011SA76 ,  4J011SA78 ,  4J011SA79 ,  4J011SA88 ,  4J011UA01 ,  4J011UA02 ,  4J011UA03 ,  4J011VA01 ,  4J011WA01 ,  4J011WA02 ,  4J011WA06 ,  4J027AC03 ,  4J027AC06 ,  4J027AE01 ,  4J027AG01 ,  4J027AG04 ,  4J027AG12 ,  4J027AG13 ,  4J027AG14 ,  4J027AG15 ,  4J027AG23 ,  4J027AG24 ,  4J027AG27 ,  4J027AG32 ,  4J027AG34 ,  4J027AJ02 ,  4J027BA01 ,  4J027BA03 ,  4J027BA06 ,  4J027BA10 ,  4J027BA18 ,  4J027BA19 ,  4J027BA20 ,  4J027BA21 ,  4J027BA26 ,  4J027BA27 ,  4J027CA03 ,  4J027CA04 ,  4J027CA06 ,  4J027CA08 ,  4J027CA10 ,  4J027CA25 ,  4J027CB10 ,  4J027CC04 ,  4J027CC05 ,  4J027CC06 ,  4J027CC07 ,  4J027CD08 ,  4J027CD09 ,  4J027CD10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• 放射線硬化性樹脂組成物及びその硬化物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-310770   Applicant：日本化薬株式会社
• 樹脂組成物の製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-026131   Applicant：日本合成化学工業株式会社
• 樹脂組成物の製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-033284   Applicant：日本合成化学工業株式会社
• 水分散可能な、放射線硬化可能のポリウレタンエマルジョン
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-249639   Applicant：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
• 特開昭61-168610
  
• 不飽和基を含有するウレタンオリゴマーとその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-157601   Applicant：共栄社化学株式会社
• カルボキシル基含有ウレタン(メタ)アクリレート、水性ウレタン(メタ)アクリレート、そのフィルムコート用組成物及びその硬化樹脂
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-219861   Applicant：ダイセル化学工業株式会社, ダイセル・ユーシービー株式会社