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J-GLOBAL ID：200903007641512524
レーザプラズマX線源
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小川 勝男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000027301
Publication number (International publication number)：2001217096
Application date： Jan. 31, 2000
Publication date： Aug. 10, 2001
Summary：
【要約】【課題】レーザプラズマX線源で発生したデブリによる光学ミラーの損傷を防止する。【解決手段】レーザ光入射側の磁場印加方向9と流体噴射方向8とのなす平面とで、イオンデブリ12の飛散方向と反対方向に光学ミラー20を配置し、デブリによる光学ミラーの損傷を防止する。
Claim (excerpt)：
真空中に流体を噴射する装置と、噴射された流体をターゲットとし、そのターゲットにレーザ光を照射してプラズマ化し、当該プラズマからX線を発生させるレーザプラズマX線源において、当該ターゲットの流体噴射方向に対して直角方向に磁場を印加する磁場印加装置を備え、レーザ光入射側の磁場印加方向と流体噴射方向とのなす平面とで、イオンデブリの飛散方向と反対方向に光学ミラーを配置することを特徴とするレーザプラズマX線源。
F-Term (5)：
4C092AA06
, 4C092AB19
, 4C092AB21
, 4C092AC09
, 4C092BD11
Cited by applicant (3)
Cited by examiner (3)
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