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J-GLOBAL ID：200903007941760210

LiCoO2の堆積

Inventor： ザン,ホンメイ ,  デマレイ,リチャード,イー. ,  シャオ,メイ
Applicant, Patent owner： シモーフィックス,インコーポレーテッド
Agent (3)： 平木 祐輔 ,  石井 貞次 ,  藤田 節
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007218906
Publication number (International publication number)：2008045213
Application date： Aug. 24, 2007
Publication date： Feb. 28, 2008
Summary：

【課題】パルスdc物理気相堆積プロセスにより、固体再充電可能Li電池のカソード層として利用しうるLiCoO2膜の低温高速度堆積方法を提供する。【解決手段】LiCoO2層を堆積する前に、基板16を約200°Cまでの温度に予備加熱する。次にLiCoO2を含むスパッタターゲット12にパルスDC電力を印加し、ターゲット12と対向する位置に配置された基板16上にLiCoO2層を形成する。さらに、短時間の急速熱アニールプロセスを行う。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

反応器内に基板を配置することと、 少なくとも不活性ガスを該反応器内に通して流動させることと、 LiCoO2を含むスパッターターゲットにパルスDC電力を印加することと、 該ターゲットを該基板に対向するように位置決めすることと、 LiCoO2の層を該基板上に形成させることと、 該基板およびLiCoO2層に急速熱アニールを適用することと、 を含む、LiCoO2層の堆積方法。

IPC (8)：

C23C 14/08 ,  C23C 14/58 ,  H01M 4/52 ,  H01M 4/66 ,  H01M 4/02 ,  H01M 10/36 ,  C23C 14/02 ,  C23C 14/34

FI (10)：

C23C14/08 K ,  C23C14/58 A ,  H01M4/52 102 ,  H01M4/66 A ,  H01M4/02 102 ,  H01M10/00 107 ,  H01M10/00 117 ,  H01M10/00 102 ,  C23C14/02 ,  C23C14/34 S

F-Term (72)：

4K029AA06 ,  4K029AA09 ,  4K029AA11 ,  4K029AA24 ,  4K029BA50 ,  4K029BC03 ,  4K029CA05 ,  4K029CA13 ,  4K029DC05 ,  4K029DC34 ,  4K029DC40 ,  4K029DC46 ,  4K029EA02 ,  4K029EA08 ,  4K029FA06 ,  4K029GA01 ,  5H017AA03 ,  5H017AS01 ,  5H017BB16 ,  5H017BB19 ,  5H017CC01 ,  5H017EE01 ,  5H017HH05 ,  5H029AJ01 ,  5H029AJ14 ,  5H029AK03 ,  5H029AL12 ,  5H029AM12 ,  5H029BJ04 ,  5H029BJ12 ,  5H029CJ02 ,  5H029CJ24 ,  5H029CJ28 ,  5H029CJ30 ,  5H029DJ07 ,  5H029DJ16 ,  5H029DJ17 ,  5H029EJ01 ,  5H029EJ03 ,  5H029EJ05 ,  5H029EJ06 ,  5H029EJ08 ,  5H029EJ12 ,  5H029HJ05 ,  5H029HJ12 ,  5H029HJ13 ,  5H029HJ14 ,  5H029HJ20 ,  5H050AA01 ,  5H050AA19 ,  5H050BA16 ,  5H050BA17 ,  5H050CA08 ,  5H050CB12 ,  5H050DA04 ,  5H050DA06 ,  5H050FA02 ,  5H050FA17 ,  5H050FA18 ,  5H050FA19 ,  5H050GA02 ,  5H050GA24 ,  5H050GA27 ,  5H050GA28 ,  5H050GA29 ,  5H050GA30 ,  5H050HA05 ,  5H050HA12 ,  5H050HA13 ,  5H050HA14 ,  5H050HA17 ,  5H050HA20

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 米国特許出願公開第2002/001747号明細書
  
• 米国特許出願公開第2001/0032666号明細書
  
• 米国特許出願公開第2002/0001746号明細書
  

Cited by examiner (8)

• リチウム二次電池用電極の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-030773   Applicant：三洋電機株式会社
• 特許第6632563号
  
• 正極および電池、並びにそれらの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-046321   Applicant：ソニー株式会社
• 非水電解質二次電池
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-401936   Applicant：株式会社東芝
• 特開昭62-266732
  
• DCスパッタリング装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-252075   Applicant：日本真空技術株式会社
• スパッタリング方法と装置および薄膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-175674   Applicant：旭硝子株式会社
• 固体リチウム二次電池およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-330661   Applicant：松下電器産業株式会社