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J-GLOBAL ID：200903007950198044

荷電粒子線露光装置

Inventor： 中筋 護
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 永井 冬紀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993170616
Publication number (International publication number)：1995029793
Application date： Jul. 09, 1993
Publication date： Jan. 31, 1995
Summary：

【要約】【目的】 散乱体を薄膜で支持しなくても感光基板に島状の非露光部を形成できる荷電粒子線露光装置を提供する。【構成】 荷電粒子線を実質的に通さない境界部材11によってマスク10の主視野を複数の副視野SFに分割し、分割された副視野SF毎に感光基板への露光を繰り返して主視野の全体を露光する荷電粒子線露光装置において、マスク10に照射される荷電粒子線を散乱させて感光基板上に島状の非露光部を形成させる散乱体120を境界部材11に支持させる。

Claim (excerpt)：

荷電粒子線で照射されるマスク上に1以上の主視野を設定し、この主視野を、荷電粒子線を実質的に通さない境界部材によって複数の副視野に分割し、分割された前記副視野毎に感光基板への露光を繰り返して前記主視野の全体を露光する荷電粒子線露光装置において、前記マスクに照射される荷電粒子線を散乱させて前記感光基板上に島状の非露光部を形成させる散乱体を、前記境界部材に支持させたことを特徴とする荷電粒子線露光装置。

FI (2)：

H01L 21/30 541 S ,  H01L 21/30 551

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 荷電粒子線描画用マスク作成方法及びマスク
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-188787   Applicant：富士通株式会社
• 特開平3-064016
  
• 荷電ビーム描画方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-054401   Applicant：株式会社東芝

Cited by examiner (3)

• 荷電粒子線描画用マスク作成方法及びマスク
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-188787   Applicant：富士通株式会社
• 特開平3-064016
  
• 荷電ビーム描画方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-054401   Applicant：株式会社東芝