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J-GLOBAL ID：200903008156234865

露光装置および露光方法

Inventor： 西郡 英俊 ,  佐野 直人
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 丸島 儀一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994320042
Publication number (International publication number)：1996179514
Application date： Dec. 22, 1994
Publication date： Jul. 12, 1996
Summary：

【要約】【目的】 露光むらの少ない露光装置を提供する。【構成】 パルス発振方式の光源1から発振されたパルス光の強度分布は、ウエハ11と同一面上に設置された強度分布測定センサ12により測定される。強度分布測定センサ12の測定結果から、露光量制御系104でパルス光の強度分布を求め、この強度分布からウエハの受光パルス数と露光むらの関係を計算し、ステージ駆動制御系101、光量制御系102、およびレーザ制御系103に対して、目標の露光量を得るための、ステージ走査速度、パルス光の光量、およびパルスの発振周波数の条件設定および制御を行う。

Claim (excerpt)：

パルス光により転写パターンが形成されたマスクを照明し、該マスクと基板とを前記パルス光に対して相対的に走査することによって、前記パルス光による照明領域を相対的に変位させながら重ね合わせ、前記転写パターンを前記基板に転写する露光装置において、前記パルス光の走査方向の強度分布を求めるための強度分布測定手段と、前記パルス光の走査方向の強度分布により、前記基板の積算露光量、または受光パルス数と、前記基板上の露光むらとの関係を予め求め、且つ目標とする積算露光量に対して最も露光むらが少なくなるような前記受光パルス数を求める演算手段と、前記受光パルス数を制御することにより前記積算露光量を制御する露光量制御手段とを有することを特徴とする露光装置。

IPC (3)：

G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 露光方法及び露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-014482   Applicant：株式会社ニコン
• 露光制御方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-053449   Applicant：株式会社ニコン