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J-GLOBAL ID：200903008175718644

薬液装置およびエッチング装置ならびにエッチング液濃度の管理方法

Inventor：
吉澤 隆

About 吉澤 隆


Applicant, Patent owner：
シャープ株式会社

About シャープ株式会社


Agent (3)： 前田 弘 ,  小山 廣毅 ,  竹内 祐二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003107590
Publication number (International publication number)：2004319568
Application date： Apr. 11, 2003
Publication date： Nov. 11, 2004
Summary：
【課題】リン酸と硝酸と酢酸と純水とからなるエッチング液の濃度を管理するようにしたエッチング装置において、各成分の濃度変化に対応できるようにし、もって、エッチング液の交換サイクルを短くすることなく、安定したエッチング処理が行えるようにする。【解決手段】光学式濃度計70によりエッチング液の成分毎の濃度を検出し、その検出結果に基づいて、リン酸および純水からなる原液と、硝酸および純水からなる原液と、酢酸および純水からなる原液と、原液としての純水とにつき、それぞれ、成分濃度が初期値になるように添加量を演算し、該当する原液をその添加量だけ薬液部21に添加するようにする。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
複数の成分からなる薬液を用いた薬液処理を行うとともに該薬液の濃度を管理するようにした薬液装置であって、 上記薬液を貯留するための薬液部と、 上記薬液の複数の成分のうち、上記薬液処理に伴って濃度の変化する成分を有する原液を個別に貯留するための複数の原液部と、 上記複数の原液部の各原液を上記薬液部に添加する添加手段と、 上記薬液部の薬液の成分毎の濃度を検出する検出手段と、 上記検出手段の検出結果に基づき、上記薬液部の薬液の各成分の濃度がそれぞれ所定値になるように上記添加手段を制御する制御手段とを備えている ことを特徴とする薬液装置。
IPC (2)：
H01L21/306 ,  C23F1/08
FI (2)：
H01L21/306 J ,  C23F1/08 101
F-Term (18)：
4K057WA10 ,  4K057WA11 ,  4K057WA12 ,  4K057WB01 ,  4K057WE02 ,  4K057WE04 ,  4K057WE12 ,  4K057WL05 ,  4K057WM00 ,  4K057WM19 ,  4K057WM20 ,  5F043DD13 ,  5F043EE07 ,  5F043EE23 ,  5F043EE24 ,  5F043EE28 ,  5F043EE29 ,  5F043EE31
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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