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J-GLOBAL ID：200903075325523960

エッチング液及びエッチング方法

Inventor： 斉藤 範之 ,  吉田 卓司 ,  井上 和式 ,  石川 誠 ,  上原口 好夫
Applicant, Patent owner： 三菱化学株式会社 ,  株式会社アドバンスト・ディスプレイ
Agent (1)： 重野 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003114581
Publication number (International publication number)：2004003005
Application date： Apr. 18, 2003
Publication date： Jan. 08, 2004
Summary：

【課題】アルミニウム又はアルミニウム合金からなる第1層上に、N、O、Si及びCのうちの少なくとも1つの元素を含むアルミニウム又はアルミニウム合金からなる第2層を有する積層膜を、1回のエッチングのみで、該積層膜を構成する双方の膜を同時に、且つ上層膜が庇形状となることを防止した上で、微細な配線形状を精度良く形成する。【解決手段】燐酸含有量が35〜65重量%で、硝酸含有量が0.5〜15重量%であるエッチング液。このエッチング液を用いるエッチング方法。【選択図】 図2

Claim (excerpt)：

アルミニウム又はアルミニウム合金からなる第1層と、該第1層上に形成された、N、O、Si及びCのうちの少なくとも1つの元素を含むアルミニウム又はアルミニウム合金からなる第2層とを有する積層膜をエッチングするためのエッチング液であって、燐酸含有量が35〜65重量%で、硝酸含有量が0.5〜15重量%であることを特徴とするエッチング液。

IPC (5)：

C23F1/20 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1343 ,  H01L21/306 ,  H01L21/3213

FI (5)：

C23F1/20 ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1343 ,  H01L21/306 F ,  H01L21/88 C

F-Term (70)：

2H088FA18 ,  2H088FA24 ,  2H088HA02 ,  2H088HA06 ,  2H088KA30 ,  2H088MA03 ,  2H088MA09 ,  2H092GA14 ,  2H092GA24 ,  2H092GA32 ,  2H092HA06 ,  2H092HA14 ,  2H092JB21 ,  2H092JB22 ,  2H092JB31 ,  2H092KA15 ,  2H092KA18 ,  2H092MA13 ,  2H092MA17 ,  2H092MA18 ,  2H092NA01 ,  2H092NA11 ,  2H092NA13 ,  2H092NA21 ,  2H092NA28 ,  2H092NA29 ,  4K057WA11 ,  4K057WA13 ,  4K057WB05 ,  4K057WB11 ,  4K057WB15 ,  4K057WE02 ,  4K057WE04 ,  4K057WE11 ,  4K057WE12 ,  4K057WG01 ,  4K057WG08 ,  4K057WM04 ,  4K057WN01 ,  4K057WN02 ,  5F033HH08 ,  5F033HH09 ,  5F033HH10 ,  5F033LL01 ,  5F033LL02 ,  5F033LL03 ,  5F033MM05 ,  5F033PP16 ,  5F033QQ08 ,  5F033QQ10 ,  5F033QQ20 ,  5F033QQ73 ,  5F033QQ74 ,  5F033RR04 ,  5F033RR06 ,  5F033VV15 ,  5F033WW00 ,  5F033WW01 ,  5F033WW04 ,  5F033WW05 ,  5F033XX03 ,  5F043AA24 ,  5F043AA27 ,  5F043AA28 ,  5F043BB16 ,  5F043BB19 ,  5F043DD13 ,  5F043DD23 ,  5F043EE29 ,  5F043GG02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

• 薄膜トランジスタおよび該薄膜トランジスタを用いた液晶表示装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-086292   Applicant：三菱電機株式会社, 株式会社アドバンスト・ディスプレイ
• 特開昭62-207886
  
• 金及び金合金の化学研磨処理液
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-295980   Applicant：日本表面化学株式会社
• 銅合金用の電解エッチング加工液と電解エッチング加工方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-113847   Applicant：ユケン工業株式会社
• ウェットエッチング装置および該装置に用いるエッチング残渣検出方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-139819   Applicant：株式会社アドバンスト・ディスプレイ, 三菱電機株式会社
• エッチング液濃度制御装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-256609   Applicant：松下電器産業株式会社
• アルミニウムを主成分とする金属薄膜のエッチング液組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-274004   Applicant：松下電器産業株式会社
• ウェットエッチング方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-122639   Applicant：鹿児島日本電気株式会社