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J-GLOBAL ID:200903008188831520

薄膜平面構造体の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 杉村 暁秀 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999126593
Publication number (International publication number):2000317896
Application date: May. 07, 1999
Publication date: Nov. 21, 2000
Summary:
【要約】【課題】 薄膜加工体の内部応力を制御して、高い再現性の下に薄膜平面構造体製造する方法を提供する。【解決手段】 過冷却液体域を有する非晶質材料からなる薄膜を所定の基板上に形成する。次いで、この薄膜にウエットエッチングなどを施して、例えば片持ち梁形状の薄膜加工体を形成する。次いで、この薄膜加工体を前記過冷却液体域まで加熱処理して、好ましくは0.5〜5分保持する。その後、前記薄膜加工体を室温まで冷却する。次いで、前記基板の少なくとも一部をウエットエッチングなどによって除去し、片持ち梁形状の前記薄膜加工体からなる薄膜平面構造体を形成する。
Claim (excerpt):
過冷却液体域を有する非晶質材料からなることを特徴とする、薄膜平面構造体。
IPC (4):
B81B 3/00 ,  B81C 1/00 ,  C23F 1/00 103 ,  H01L 21/306
FI (4):
B81B 3/00 ,  B81C 1/00 ,  C23F 1/00 103 ,  H01L 21/306 G
F-Term (11):
4K057WA20 ,  4K057WB06 ,  4K057WC01 ,  4K057WC06 ,  4K057WE22 ,  4K057WN10 ,  5F043AA07 ,  5F043BB03 ,  5F043CC02 ,  5F043FF10 ,  5F043GG10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)

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