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J-GLOBAL ID：200903008217336330

光近接効果補正方法及び光近接効果補正システム

Inventor：
池内 敦彦

About 池内 敦彦


Applicant, Patent owner：
株式会社東芝

About 株式会社東芝


Agent (1)： 三好 秀和 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001359956
Publication number (International publication number)：2003162041
Application date： Nov. 26, 2001
Publication date： Jun. 06, 2003
Summary：
【要約】【課題】 レイアウトパターン、マスクパターンを短時間で適切に補正し、ほとんどのパターンに対応したOPCを早期に立ち上げる。【解決手段】 OPC不適合パターン及びその対策をライブラリ記憶装置に格納する登録手段10と、レイアウト設計を行うレイアウト設計手段19、OPCを行うOPC手段20、リソグラフィ・ルール・チェックとして危険箇所の抽出を行う危険箇所抽出手段25のうちの少なくとも1の手段において、得られた設計パターンに対してライブラリ記憶装置41に格納されているOPC不適合パターンとパターンマッチングを行うパターンマッチング手段18とを含む光近接効果補正システムである。
Claim (excerpt)：
OPC不適合パターン及びその対策をライブラリ記憶装置に格納するステップと、レイアウト設計、OPC、リソグラフィ・ルール・チェック、危険箇所の登録のうちの少なくとも1の段階において、得られた設計パターンに対して前記ライブラリ記憶装置に格納されている前記OPC不適合パターンとパターンマッチングを行うステップとを含むことを特徴とする光近接効果補正方法。
IPC (5)：
G03F 1/08 ,  G06F 17/50 658 ,  G06F 17/50 666 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/82
FI (5)：
G03F 1/08 A ,  G06F 17/50 658 M ,  G06F 17/50 666 C ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/82 D
F-Term (11)：
2H095BB01 ,  5B046AA08 ,  5B046BA06 ,  5B046JA02 ,  5F064DD02 ,  5F064DD03 ,  5F064DD13 ,  5F064DD14 ,  5F064DD24 ,  5F064DD26 ,  5F064HH06
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)

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