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J-GLOBAL ID:200903008291256100
3次元形状計測方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
西川 惠清 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999304086
Publication number (International publication number):2001124534
Application date: Oct. 26, 1999
Publication date: May. 11, 2001
Summary:
【要約】【課題】 位相シフト法による3次元計測において、逆正接関数により位相導出を行う際の位相連結の問題を解決する方法を提供する。【解決手段】 1周期以上の正弦波パターンを使用して位相シフト法による計測を行う場合において、正弦波パターンである第1パターンと、その正弦波パターンの位相境界の位置を示すための第2パターンとを併用する。第1パターンは投影装置11により計測対象Tに投影され、また第2パターンはレーザーなどの光源121およびハーフミラー122により成る補助投影装置12により計測対象Tに投影される。
Claim (excerpt):
光の強度が少なくとも1周期以上に亘る正弦波状に変化し縞状となる第1パターンを計測対象に投影し、前記1周期の縞間隔よりも狭い間隔で前記第1パターンの位相シフトを複数回行い、少なくとも前記位相シフト毎に、前記第1パターンの光の光軸と異なる方向から、前記計測対象の表面形状に応じて変形した前記第1パターンの撮像を行い、前記撮像で得られた複数の画像の同一位置における明度を逆正接関数で演算処理して前記第1パターンの位相を導出し、前記第1パターンの位相境界で発生する不連続を復元して位相の連結を行う各ステップを有し、前記位相シフトの方向に沿った位置に対する前記第1パターンの光の強度が分かるように、前記第1パターンと異なる第2パターンの光を変調して投影し、前記位相の連結の際、前記第2パターンの光の明度変化に応じて、前記第1パターンの位相境界の位置を割り出すことを特徴とする3次元形状計測方法。
IPC (4):
G01B 11/25
, G01B 11/24
, G06T 7/00
, G06T 1/00
FI (4):
G01B 11/24 E
, G01B 11/24 K
, G06F 15/62 415
, G06F 15/64 M
F-Term (23):
2F065AA04
, 2F065AA53
, 2F065DD03
, 2F065DD06
, 2F065FF04
, 2F065GG02
, 2F065GG12
, 2F065HH06
, 2F065JJ03
, 2F065JJ19
, 2F065JJ26
, 2F065LL25
, 2F065LL46
, 2F065QQ03
, 2F065QQ24
, 2F065QQ31
, 5B047AA07
, 5B047AB02
, 5B047BC04
, 5B047BC09
, 5B057AA20
, 5B057BA02
, 5B057DA20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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三次元形状測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-082587
Applicant:株式会社ニデック
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形状計測方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-224548
Applicant:株式会社江川
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