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J-GLOBAL ID：200903008312672002

処理装置の基板位置決め装置及びその方法

Inventor：
山本 正昭

About 山本 正昭

, 
城田 浩行

About 城田 浩行


Applicant, Patent owner：
大日本スクリーン製造株式会社

About 大日本スクリーン製造株式会社


Agent (1)： 杉谷 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999143068
Publication number (International publication number)：2000329544
Application date： May. 24, 1999
Publication date： Nov. 30, 2000
Summary：
【要約】【課題】 基板の位置決めを迅速に行うことができてスループットを高めることができる基板の位置決め装置を提供する。【解決手段】 基板を載置する載置テーブル15と処理部21とを相対的に移動させ、処理位置EPにて所定の処理を施すための処理装置の基板位置決め装置において、載置テーブル15と処理部21との相対的な移動方向を挟み、かつ、移動方向と斜めに交差する線上に配設された少なくとも2台のアライメントスコープ33,37を備え、基準穴をアライメントスコープ33,37によって計測することに基づき基板の位置決めを行う。移動方向と斜めに交差する線上に配設された少なくとも2台のアライメントスコープ33,37により、載置テーブル15を移動させることなく処理部21側の基準穴とそれに遠い側の基準穴の位置を同時に計測することができる。
Claim (excerpt)：
基板を載置する載置台と処理部とを相対的に移動させ、処理位置にて所定の処理を施すための処理装置の基板位置決め装置において、前記載置台と前記処理部との相対的な移動方向を挟み、かつ、移動方向と斜めに交差する線上に配設された少なくとも2台のアライメントスコープを備え、前記載置台に載置された基板の対角線上に形成されている基準マークを前記アライメントスコープによって計測することに基づき前記基板の位置決めを行うことを特徴とする処理装置の基板位置決め装置。
IPC (2)：
G01B 21/00 ,  G03F 9/00
FI (2)：
G01B 21/00 L ,  G03F 9/00 Z
F-Term (24)：
2F069AA01 ,  2F069BB14 ,  2F069CC06 ,  2F069DD15 ,  2F069DD25 ,  2F069GG04 ,  2F069GG06 ,  2F069GG07 ,  2F069GG15 ,  2F069GG39 ,  2F069GG52 ,  2F069GG56 ,  2F069HH09 ,  2F069JJ19 ,  2F069JJ26 ,  2F069MM11 ,  2F069PP02 ,  2H097AA03 ,  2H097AB05 ,  2H097CA17 ,  2H097KA13 ,  2H097KA15 ,  2H097KA20 ,  2H097LA09
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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