パターン検査方法およびその装置

Inventor： , , , , , , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高橋明夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997131460
Publication number (International publication number)：1998318950
Application date： May. 21, 1997
Publication date： Dec. 04, 1998
Summary：

【要約】【課題】対象物および画像検出系に起因した、パターン形状の微小な差異、階調値の差異、パターンの歪み、位置ずれといった不一致が引き起こす虚報を低減し、より微細な欠陥の検出が可能な欠陥検出方法および装置並びに電子顕微鏡を提供する。【解決手段】比較する二つの画像の画素以下の位置ずれ量、画像の局所的な階調値の変化率、および、局所的な階調値の代表値から、差画像の階調値に対する許容範囲を画素ごとに求め、差画像の階調値と画素ごとに算出した許容範囲とを比較し、差画像の階調値が許容範囲内にある画素は非欠陥候補、許容範囲外にある画素は欠陥候補と判定することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

被検査対象物上における各点での物理量のサンプリング値が各画素について階調値で検出される第1の2次元画像と、該第1の2次元画像の比較対象として各画素について階調値で表される第2の2次元画像とを比較して、被検査対象物上の欠陥または欠陥候補を検査する方法であって、前記第1の2次元画像における所定領域の画像と前記第2の2次元画像における所定領域の画像とにおける位置ずれ量に応じて許容範囲を算出し、前記第1の2次元画像と前記第2の2次元画像との間における階調値による距離または差を求め、この求められた階調値による距離または差が前記算出された許容範囲に入っているか否かに応じて欠陥または欠陥候補を判定することを特徴とするパターン検査方法。

IPC (5)：

G01N 23/225 , G01N 21/88 , G01N 23/20 , G06T 7/00 , H01L 21/66

FI (7)：

G01N 23/225 , G01N 21/88 E , G01N 21/88 J , G01N 23/20 , H01L 21/66 Z , H01L 21/66 J , G06F 15/62 405 A

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

配線パターン検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-329108 Applicant：松下電器産業株式会社
画像のアライメント補正方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-119226 Applicant：株式会社アドバンテスト
特開平4-194702

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Cited by examiner (5)

配線パターン検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-329108 Applicant：松下電器産業株式会社
画像のアライメント補正方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-119226 Applicant：株式会社アドバンテスト
特開平4-194702

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