走査電子顕微鏡

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：平木祐輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003417128
Publication number (International publication number)：2005174883
Application date： Dec. 15, 2003
Publication date： Jun. 30, 2005
Summary：

【課題】試料のシュリンクによる測長精度の低下を改善する走査電子顕微鏡の走査法を提供する。【解決手段】走査線の走査順序を変化させて試料上の同一場所に対する1度目と2度目の走査間の時間を短縮することで、シュリンク量の少ない時に連続して走査を行う。【選択図】図5

Claim (excerpt)：

電子線源と、該電子線源より放出された電子線を試料上に収束して走査する電子線走査部と、電子線照射によって試料から発生した二次信号を検出する検出器と、前記検出器によって検出された二次信号をもとに複数の画像信号を積算して試料画像を形成する描画部とを備える走査電子顕微鏡において、前記電子線走査部によって試料上に走査される電子線の走査パターンが選択可能に複数用意され、前記複数の走査パターンは、試料上の走査領域中の各電子線照射位置が一度電子線照射を受けてから次に電子線照射を受けるまでの時間がそれぞれ異なる走査パターンであることを特徴とする走査電子顕微鏡。

IPC (1)：

H01J37/147

FI (1)：

H01J37/147 B

F-Term (3)：

5C033FF03 , 5C033UU01 , 5C033UU08

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

走査電子顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-331644 Applicant：株式会社日立製作所

Cited by examiner (2)

荷電ビーム装置の画像観察モードの設定方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-357032 Applicant：株式会社ニコン
走査電子顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-124345 Applicant：株式会社日立製作所

Return to Previous Page