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J-GLOBAL ID:200903008709302260
多孔体膜並びに薄膜の作製方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (3):
小池 晃
, 田村 榮一
, 伊賀 誠司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003057524
Publication number (International publication number):2004261779
Application date: Mar. 04, 2003
Publication date: Sep. 24, 2004
Summary:
【課題】ナノチャンネル体が表面に対してほぼ垂直方向となるような多孔体膜並びに薄膜の作製方法を提供する。【解決手段】直径約10nm〜数μmのマクロ細孔が表面から底面にかけて貫通するように形成されてなる酸化物層にカチオン系界面活性剤を接触させることで、界面活性剤ミセルを内包しているナノチャンネル体を有する薄膜を作製し、また上記カチオン系界面活性剤を接触させた酸化物層をさらに焼成することにより、シリカナノ細孔体を有する薄膜を作製する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
基板を酸化させて生成した酸化物層からなる多孔体膜において、
界面活性剤ミセルを内包しているナノチャンネル体が上記酸化物層の表面から底面にかけて貫通するように形成されてなること
を特徴とする多孔体膜。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (24):
4D006GA06
, 4D006GA07
, 4D006MA03
, 4D006MA22
, 4D006MA27
, 4D006MB09
, 4D006MC03X
, 4D006NA39
, 4D006NA50
, 4D006NA62
, 4D006PA02
, 4D006PC69
, 4G072AA28
, 4G072BB09
, 4G072BB15
, 4G072CC20
, 4G072FF06
, 4G072HH30
, 4G072KK01
, 4G072KK15
, 4G072LL11
, 4G072MM36
, 4G072UU15
, 4G072UU30
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
-
担持ゼオライト膜の生成方法および得られた膜
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-327209
Applicant:アンスティテュフランセデュペトロール
-
特開昭62-279806
-
メソポーラスシリカ、メソポーラスシリカ複合体及びそれらの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-033191
Applicant:日本碍子株式会社, 上山惟一
-
メソポーラスシリカ、メソポーラスシリカ複合体及びそれらの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-033190
Applicant:日本碍子株式会社, 上山惟一
-
新規濾過膜
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-139084
Applicant:旭化成株式会社
-
特開昭62-279806
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