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J-GLOBAL ID：200903008723558812

電子ビーム描画方法及び描画装置、並びにこれを用いた半導体製造方法

Inventor： 太田 洋也 ,  早田 康成 ,  斎藤 ▲徳▼郎 ,  依田 晴夫 ,  由井 敬清 ,  橋本 伸一
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  キヤノン株式会社 ,  株式会社アドバンテスト
Agent (1)： 小川 勝男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002102789
Publication number (International publication number)：2003297732
Application date： Apr. 04, 2002
Publication date： Oct. 17, 2003
Summary：

【要約】【課題】マルチビーム描画方式において、各ビームの位置補正を偏向器アレイと膨大かつ高精度な駆動回路を用いずに高精度かつ高速な電子ビーム描画技術を提供する。【解決手段】複数の電子ビームの各々を独立にオンオフし走査して試料上に所望のパターンを描画する電子ビーム描画方法において、前記複数の電子ビームの各々が描くパターンと描画すべき前記所望のパターンとのずれを、前記複数の電子ビームの各々が描くパターンのパターンデータの位置をシフトすることにより制御する。

Claim (excerpt)：

複数の電子ビームの各々を独立にオンオフし走査して試料上に所望のパターンを描画する電子ビーム描画方法において、前記複数の電子ビームの各々が描くパターンと前記所望のパターンとのずれを、前記複数の電子ビームの各々が描くパターンのパターンデータの位置をシフトすることにより制御してなることを特徴とする電子ビーム描画方法。

FI (2)：

H01L 21/30 541 D ,  H01L 21/30 541 W

F-Term (15)：

5F056AA07 ,  5F056AA33 ,  5F056BB03 ,  5F056CA02 ,  5F056CA04 ,  5F056CA26 ,  5F056CB05 ,  5F056CB13 ,  5F056CB14 ,  5F056CB35 ,  5F056CC02 ,  5F056CC09 ,  5F056CD03 ,  5F056CD04 ,  5F056CD06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 荷電粒子線露光装置及びデバイス製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-075894   Applicant：キヤノン株式会社
• 特開昭59-107512
  
• 特開平1-200622
  
• リソグラフイ露光システム及びその方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-212141   Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

Cited by examiner (7)

• 荷電粒子線露光装置及びデバイス製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-075894   Applicant：キヤノン株式会社
• 特開昭59-107512
  
• 特開平1-200622
  
• リソグラフイ露光システム及びその方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-212141   Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• 特開昭59-107512
  
• 特開平1-200622
  
• 電子ビーム露光方法及び電子ビーム露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-127737   Applicant：株式会社アドバンテスト