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J-GLOBAL ID：200903050660776993

荷電粒子線露光装置及びデバイス製造方法

Inventor：
村木 真人

About 村木 真人


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 西山 恵三 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000075894
Publication number (International publication number)：2001267221
Application date： Mar. 17, 2000
Publication date： Sep. 28, 2001
Summary：
【要約】【課題】 歪曲収差を容易に補正できる荷電粒子線描画装置を提供する。【解決手段】 荷電粒子源; 前記荷電粒子源から放射される荷電粒子線を照射する照射電子光学系;前記照射電子光学系からの荷電粒子線が照射される、複数の開口を備えた基板; 該基板の各開口を通過する荷電粒子線のそれぞれの中間像を形成する複数の要素電子光学系; 前記複数の中間像を被露光面に縮小投影する投影電子光学系; 前記基板の複数の開口からの荷電粒子線を個別に偏向してブランキングを制御する複数の偏向器; 前記照射電子光学系の前側焦点位置と、前記荷電粒子源位置との相対位置関係を変更する変更手段; および前記各偏向器を個別に制御するとともに前記位置決め機構を制御することで、各中間像が前記被露光面に投影される位置を調整する制御手段を有することを特徴とする。
Claim (excerpt)：
荷電粒子源、前記荷電粒子源から放射される荷電粒子線を照射する照射電子光学系、前記照射電子光学系からの荷電粒子線が照射される、複数の開口を備えた基板、該基板の各開口を通過する荷電粒子線のそれぞれの中間像を形成する複数の要素電子光学系、前記複数の中間像を被露光面に縮小投影する投影電子光学系、前記基板の複数の開口からの荷電粒子線を個別に偏向してブランキングを制御する複数の偏向器、前記照射電子光学系の前側焦点位置と、前記荷電粒子源位置との相対位置関係を変更する変更手段、および前記各偏向器を個別に制御するとともに前記位置決め機構を制御することで、各中間像が前記被露光面に投影される位置を調整する制御手段を有することを特徴とする荷電粒子線露光装置。
IPC (6)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 506 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207 ,  H01J 37/305
FI (7)：
G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 506 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207 H ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 B ,  H01L 21/30 541 D
F-Term (16)：
2H097BA01 ,  2H097BB03 ,  2H097CA16 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  5C034BB02 ,  5C034BB03 ,  5C034BB04 ,  5C034BB07 ,  5C034BB08 ,  5F056AA07 ,  5F056BA09 ,  5F056CB05 ,  5F056CB14 ,  5F056CB32 ,  5F056EA08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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