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J-GLOBAL ID：200903008754851909

周波数変換位相シフト干渉計測法

Inventor：
デック、レスリー エル.

About デック、レスリー エル.


Applicant, Patent owner：
ザイゴ コーポレーション

About ザイゴ コーポレーション


Agent (2)： 恩田 博宣 ,  恩田 誠
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002518063
Publication number (International publication number)：2004510958
Application date： Aug. 02, 2001
Publication date： Apr. 08, 2004
Summary：
本発明は、周波数領域で波長調整PSIデータが解析され、複数の面の対によって画成された干渉計キャビティにおいて、特定の面の対に各々対応するスペクトル分離した周波数ピークが生成される、方法とシステムを特徴とする。各周波数ピークによって、キャビティにおいて対応する面の対に関する光路長情報が提供される。その結果、このようなキャビティからの干渉計データは、複数の面に関する情報を同時に提供する。
Claim (excerpt)：
被検物体を特徴付けるための干渉計測法であって、 前記被検物体の複数の面と少なくとも1つの参照面とから反射された光波面の異なる部分を合成することによって、光学的な干渉画像を形成する工程であって、前記被検物体の前記複数の面及び前記少なくとも1つの参照面が一組のキャビティ面を画成する工程と、 或る周波数範囲に渡る前記光波面の周波数の調整に応じて、前記光学的な干渉画像の異なる位置に干渉信号を記録する工程であって、前記干渉信号には、前記一組のキャビティ面における異なる面の各対からの寄与分が含まれる工程と、 各位置に対して、前記一組のキャビティ面において前記異なる面の各選択対に対応する周波数で、前記干渉信号の周波数変換値を計算する工程と、前記面の選択対に対応する前記各周波数で前記周波数変換値の位相を抽出する工程と、から成る方法。
IPC (1)：
G01B9/02
FI (1)：
G01B9/02
F-Term (14)：
2F064AA00 ,  2F064AA09 ,  2F064EE05 ,  2F064FF01 ,  2F064GG16 ,  2F064GG22 ,  2F064GG23 ,  2F064GG44 ,  2F064GG52 ,  2F064HH03 ,  2F064HH08 ,  2F064JJ02 ,  2F064JJ06 ,  2F064JJ15
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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