光周波数掃引式断層画像測定方法および装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：西教圭一郎 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997142584
Publication number (International publication number)：1998332329
Application date： May. 30, 1997
Publication date： Dec. 18, 1998
Summary：

【要約】【課題】機械的走査を行わずに、広い空間領域での断層画像情報を短時間かつ高分解能で得られる光周波数掃引式断層画像測定方法および装置を提供する。【解決手段】光周波数掃引が可能な光源1からコヒーレント光を発生して、コヒーレント光を参照光と測定光とに分割した後、測定光で試料SPを照射し、反射した物体光と該参照光との干渉によって干渉光を発生して、複数の受光画素が1次元または2次元に配置されて構成された撮像素子20を用いて、該干渉光を撮像して、光周波数の掃引期間中に所定のフレーム周期毎に撮像素子20から画像信号を出力させ、該画像信号をフレーム毎にフレームメモリ23に格納した後、フレームメモリ23に格納された画像信号を画素毎に時間軸でフーリエ変換して、断層画像を算出する。

Claim (excerpt)：

光周波数掃引が可能な光源からコヒーレント光を発生して、該コヒーレント光を参照光と測定光とに分割した後、測定光で物体を照射し、反射した物体光と該参照光との干渉によって干渉光を発生して、複数の受光画素が1次元または2次元に配置されて構成された撮像素子を用いて、該干渉光を撮像して、光周波数の掃引期間中に所定のフレーム周期毎に撮像素子から画像信号を出力させ、該画像信号をフレーム毎に画像メモリに格納した後、画像メモリに格納された画像信号を画素毎に時間軸でフーリエ変換して、断層画像を算出することを特徴とする光周波数掃引式断層画像測定方法。

IPC (5)：

G01B 11/00 , G01B 9/02 , G01N 21/17 , G01N 21/27 , G01N 21/35

FI (5)：

G01B 11/00 G , G01B 9/02 , G01N 21/17 A , G01N 21/27 A , G01N 21/35 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

画像合成内視鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-229794 Applicant：富士写真フイルム株式会社
特開平3-225259
特開昭63-149567

Show all

Cited by examiner (7)

画像合成内視鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-229794 Applicant：富士写真フイルム株式会社
特開平3-225259
特開昭63-149567

Show all

Return to Previous Page