X線発生制御方法およびその装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：杉谷勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004157720
Publication number (International publication number)：2005340009
Application date： May. 27, 2004
Publication date： Dec. 08, 2005
Summary：

【課題】電子ビーム量およびX線量を正確に制御することができるX線発生制御方法およびその装置を提供することを目的とする。【解決手段】ターゲット上に常に結像される条件の下では、ターゲットに到達する制御されるべき電子ビーム量、すなわちターゲット電流(輝度)を入力すれば(ステップS2)、演算によって第1集束コイルの励起強度、さらには他方の第2集束コイルの励起強度を決定することができる(ステップS3,S4)。そして、これらの集束コイルの励起強度に基づいて各集束コイルを操作すること(ステップS5)で、ターゲット電流が制御される。ターゲット電流にX線量は比例するので、これらの操作量である励起強度に基づいて集束コイルを操作することで、X線量も制御される。その結果、ウェネルト電極を操作してウェネルト電極付近の電子ビーム量(エミッション電流)を制御するとともにX線量を制御する手法と比較すると、電子ビーム量およびX線量を正確に制御することができる。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

複数の集束手段により電子ビームを集束させて、電子ビームのターゲットへの衝突によりX線を発生させることで、X線の発生を制御するX線発生制御方法であって、(A)複数の集束手段のうち2つの集束手段について、所定の条件において一方の集束手段を操作する操作量、またはターゲットに到達する電子ビーム量あるいはX線量のいずれか1つを決定すればそれに連動して残りを決定する工程、(B)前記所定の条件において前記一方の集束手段の操作量を決定すればそれに連動して他方の集束手段の操作量を決定する工程を備え、前記(A)および(B)の工程により前記電子ビーム量を制御するとともにX線量を制御することを特徴とするX線発生制御方法。

IPC (4)：

H01J35/14 , G21K5/00 , G21K5/02 , H05G1/00

FI (4)：

H01J35/14 , G21K5/00 A , G21K5/02 X , H05G1/00 E

F-Term (8)：

4C092AA01 , 4C092AB10 , 4C092AC01 , 4C092AC08 , 4C092CE07 , 4C092CF47 , 4C092CJ13 , 4C092DD01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

回転陽極X線管及びそれを用いたX線CT装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-300468 Applicant：株式会社日立メディコ
X線発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-165020 Applicant：浜松ホトニクス株式会社
X線発生用タ-ゲットとX線源とX線撮像装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-336468 Applicant：株式会社日立製作所

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