Pat
J-GLOBAL ID：200903009263921669

化学物質汚染物の浄化方法および地下汚染領域の浄化方法

Inventor：
江口 正浩

About 江口 正浩

, 
明賀 春樹

About 明賀 春樹


Applicant, Patent owner：
オルガノ株式会社

About オルガノ株式会社


Agent (1)： 畑中 芳実 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001116958
Publication number (International publication number)：2002307049
Application date： Apr. 16, 2001
Publication date： Oct. 22, 2002
Summary：
【要約】【課題】 化学物質により汚染された汚染物や地下汚染領域、特に有機塩素化合物で汚染された土壌、底質、汚泥、地下水等を、短期間で、かつ低コスト、低エネルギーで効率的に浄化することができる方法を提供する。【解決手段】 化学物質により汚染された汚染物に酸化剤として過硫酸塩を添加する。また、地下汚染領域Xまたはその付近に存在する地下水Wに過硫酸塩60を添加62する。あるいは、地下汚染領域またはその付近から揚水した地下水に過硫酸塩を添加した後、この過硫酸塩を添加した水を再び地下汚染領域またはその付近に注入する。
Claim (excerpt)：
化学物質により汚染された汚染物の浄化方法であって、汚染物に過硫酸塩を添加することを特徴とする化学物質汚染物の浄化方法。
IPC (5)：
B09C 1/02 ,  B09B 3/00 ZAB ,  B09C 1/08 ,  C02F 1/72 ,  C02F 1/00
FI (4)：
C02F 1/72 Z ,  C02F 1/00 K ,  B09B 3/00 304 K ,  B09B 3/00 ZAB
F-Term (19)：
4D004AA41 ,  4D004AB02 ,  4D004AB05 ,  4D004AB06 ,  4D004AB07 ,  4D004AC07 ,  4D004CA35 ,  4D004CA36 ,  4D004CC11 ,  4D004DA03 ,  4D004DA10 ,  4D004DA20 ,  4D050AA01 ,  4D050AB12 ,  4D050AB19 ,  4D050BB09 ,  4D050BB13 ,  4D050BD03 ,  4D050CA13
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (10)
Show all
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM