ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：萩野平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996288497
Publication number (International publication number)：1998133376
Application date： Oct. 30, 1996
Publication date： May. 22, 1998
Summary：

【要約】【課題】高解像力を有し、かつパターンの裾にスカムを発生させることのない、良好なレジストパターンを形成する優れた化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供することにある。【解決手段】 (a)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する樹脂と、(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、(c)溶剤とを含有するポジ型フォトレジスト組成物において、前記(a)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する樹脂の固形分中の、蛍光X線測定による、総塩素濃度が50ppm以下であることを満足することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(a)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する樹脂と、(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、(c)溶剤とを含有するポジ型フォトレジスト組成物において、前記(a)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する樹脂の固形分中の、蛍光X線測定による、総塩素濃度が50ppm以下であることを満足することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 503 , G03F 7/023 511 , H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/023 511 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

高純度感光性樹脂組成物の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-205257 Applicant：三菱化学株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-352621 Applicant：ジェイエスアール株式会社

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