基板処理装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999226195
Publication number (International publication number)：2001046941
Application date： Aug. 10, 1999
Publication date： Feb. 20, 2001
Summary：

【要約】【課題】傾斜姿勢で搬送される基板の上部端縁に層状に処理液を供給する基板処理装置において、基板の上側主面を均一に処理できる基板処理装置を提供する。【解決手段】そこで本発明では、複数の搬送ローラRによって傾斜姿勢で搬送され、スリットノズル10から上部端縁UEに薬液TLが層状に供給される基板Gの上方に、基板Gの上側主面US上を流下する薬液TLを誘導する複数の誘導部材15を配置する。

Claim (excerpt)：

傾斜姿勢で搬送される基板の主面に処理液を供給する基板処理装置において、基板の搬送方向と直交する面内で水平面に対して基板を傾斜させつつその主面に沿った方向に搬送する搬送手段と、搬送手段によって搬送される基板の搬送方向に沿った上部端縁に処理液を層状に供給するスリットノズルを有する処理液供給手段と、搬送手段によって搬送される基板の上側主面に対向するとともに基板の上部端縁側から下部端縁側にかけて延びる対向面を有し、搬送方向に沿った基板の長さ寸法よりも短い間隔で並列配置された複数の誘導部材と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (8)：

B05C 11/08 , G02F 1/13 101 , G02F 1/1333 500 , G03F 1/08 , G03F 7/30 501 , H01L 21/304 643 , H01L 21/306 , H01L 21/027

FI (8)：

B05C 11/08 , G02F 1/13 101 , G02F 1/1333 500 , G03F 1/08 X , G03F 7/30 501 , H01L 21/304 643 B , H01L 21/306 R , H01L 21/30 569

F-Term (27)：

2H088FA17 , 2H088FA24 , 2H088FA30 , 2H088HA01 , 2H088MA20 , 2H090JA06 , 2H090JC07 , 2H095BB21 , 2H096AA25 , 2H096AA28 , 2H096AA30 , 2H096CA13 , 2H096GA01 , 4F042AA02 , 4F042AA06 , 4F042CB00 , 4F042CB24 , 4F042DF19 , 4F042DF35 , 4F042ED00 , 5F043AA01 , 5F043BB27 , 5F043BB30 , 5F043EE07 , 5F043EE09 , 5F046LA11 , 5F046LA14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-114132 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-078973 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-143065 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社

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