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J-GLOBAL ID：200903009555646120

ジアゾジスルホン化合物および感放射線性樹脂組成物

Inventor： 小林 英一 ,  横山 健一 ,  王 勇 ,  岩永 伸一郎
Applicant, Patent owner： ジェイエスアール株式会社
Agent (1)： 福沢 俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999139222
Publication number (International publication number)：2000038376
Application date： May. 19, 1999
Publication date： Feb. 08, 2000
Summary：

【要約】【課題】 化学増幅型レジストの感放射線性酸発生剤として、特にKRFエキシマレーザー等に代表される遠紫外線に対して高感度(低露光エネルギー量)で酸を発生でき、かつ優れた解像性能およびパターン形状をもたらしうる、新規なジアゾジスルホン化合物、並びに当該化合物を含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 ジアゾジスルホン化合物は、下記式(1)または式(2)で表される化合物で代表される。【化1】【化2】感放射線性樹脂組成物は、前記ジアゾジスルホン化合物と4-ヒドロキシスチレン/4-(1’-エトキシエトキシ)スチレン共重合体等で代表される樹脂を含有する。

Claim (excerpt)：

下記式(1)で表されるジアゾジスルホン化合物。【化1】〔式(1)において、R1は1価の有機基を示し、R2〜R9は相互に独立に水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシル基または炭素数1〜4のヒドロキシアルキル基を示す。〕

IPC (6)：

C07C317/28 ,  C07D317/72 ,  C07D319/08 ,  C08K 5/41 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/004 503

FI (6)：

C07C317/28 ,  C07D317/72 ,  C07D319/08 ,  C08K 5/41 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/004 503 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 化学増幅型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-198979   Applicant：東京応化工業株式会社
• 新規なジアゾメタン化合物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-198955   Applicant：東京応化工業株式会社, ダイトーケミックス株式会社
• 新規ビススルホニルジアゾメタン
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-198954   Applicant：東京応化工業株式会社, ダイトーケミックス株式会社