新規なジアゾメタン化合物

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：阿形明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997198955
Publication number (International publication number)：1999035552
Application date： Jul. 24, 1997
Publication date： Feb. 09, 1999
Summary：

【要約】【課題】化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤として有用な新規なジアゾメタン化合物を提供する。【解決手段】一般式【化1】(式中のRはそれぞれ水素原子であるか、又は同一環中の2個のRでジメチルメチレン基を形成する基であり、R1及びR2はそれぞれ低級アルキル基であり、nは0又は1である)とする。

Claim (excerpt)：

一般式【化1】(式中のRはそれぞれ水素原子であるか、又は同一環中の2個のRでジメチルメチレン基を形成する基であり、R1及びR2はそれぞれ低級アルキル基であり、nは0又は1である)で表わされるジアゾメタン化合物。

IPC (2)：

C07C381/14 , G03F 7/004 503

FI (2)：

C07C381/14 , G03F 7/004 503 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-286168 Applicant：東京応化工業株式会社
ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-094443 Applicant：東京応化工業株式会社
特開平2-106751

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