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J-GLOBAL ID:200903009939023340
シ-スフロ-セルとそれを用いた血液分析装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
野河 信太郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999013293
Publication number (International publication number):2000214070
Application date: Jan. 21, 1999
Publication date: Aug. 04, 2000
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 シースフローセルの試料液の時間当たりの流量を増大し、多項目血液分析装置の処理能力の向上をはかる。【解決手段】 シースフローセルは、流入口2から流出口3へシース液を導く案内孔4を有するセル1を備え、前記セルは流入口2から流出口3に向かって連続する整流部11と加速部12とオリフィス部13とを一体に接続してなり、整流部11は円筒状の貫通孔を、加速部12は流出口3に向かって径が徐々に小さくなる円錐状の貫通孔を、オリフィス部13は角筒状の貫通孔をそれぞれ備え、互いに滑らかに連通して前記案内孔を形成し、前記セル内には流入口2から加速部12へ向かって整流部11の貫通孔と同軸に延びる円筒状の試料液供給ノズルが設けられ、オリフィス部13の貫通孔は一辺の長さが0.1〜0.4mmの断面を有し、整流部11の貫通孔の長さがその内径の4倍以上である。
Claim (excerpt):
流入口から流出口へシース液を導く案内孔を有するセルを備え、前記セルは流入口から流出口に向かって連続する整流部と加速部とオリフィス部とを一体に接続してなり、整流部は円筒状の貫通孔を、加速部は流出口に向かって径が徐々に小さくなる円錐状の貫通孔を、オリフィス部は角筒状の貫通孔をそれぞれ備え、互いに滑らかに連通して前記案内孔を形成し、前記セル内には流入口から加速部へ向かって整流部の貫通孔と同軸に延びる円筒状の試料液供給ノズルが設けられ、オリフィス部の貫通孔は一辺の長さが0.1〜0.4mmの断面を有し、整流部の貫通孔の長さがその内径の4倍以上であるシースフローセル。
IPC (3):
G01N 15/14
, G01N 21/05
, G01N 33/49
FI (4):
G01N 15/14 A
, G01N 15/14 C
, G01N 21/05
, G01N 33/49 H
F-Term (15):
2G045AA01
, 2G045CA01
, 2G045FA12
, 2G045FA13
, 2G045FA14
, 2G045FB12
, 2G057AA01
, 2G057AA03
, 2G057AA14
, 2G057AB06
, 2G057AB07
, 2G057AC01
, 2G057BA05
, 2G057BD10
, 2G057CA07
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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細胞または微粒子解析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-065412
Applicant:富士電機株式会社
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多元的細胞識別分析法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-008492
Applicant:ベクトン・ディッキンソン・アンド・カンパニー
-
赤血球測定方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-084575
Applicant:東亞医用電子株式会社
-
粒子含有流体の拡散稀釈装置および方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-361182
Applicant:エアー.プロダクツ.アンド.ケミカルス.インコーポレーテッド
-
白血球分類計数用試料調製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-188925
Applicant:東亜医用電子株式会社
-
特公平4-036333
-
特許第2874746号
-
超音波診断装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-163916
Applicant:株式会社島津製作所
-
光学セル及び光学検出装置とこれを用いる試料分離検出装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-044394
Applicant:株式会社日立製作所
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