三次元光導波路用薄膜材料およびその作製方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：矢葺知之 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995175882
Publication number (International publication number)：1997026514
Application date： Jul. 12, 1995
Publication date： Jan. 28, 1997
Summary：

【要約】【課題】本発明は精度の高い三次元光導波路が簡単なプロセスで作製可能になる材料および方法を提供する。【解決手段】カルボキシル基とオレフィン二重結合の両方を含む酸で化学修飾した金属アルコキシドと、ポリジメチルシロキサンから構成される無機・有機融合体材料に、三次元光導波路のパターンを刻んだフォトマスクを通して光エネルギーを当てる。光の当たった部分のみ、吸収した光エネルギーで無機・有機融合体材料の分子構造が変化するため、分子の分極率の変化、即ち材料の屈折率の変化が起きる。【効果】無機・有機融合体材料中に、フォトマスクを利用した光照射という簡単なプロセスで、三次元光導波路を作製することができる。

Claim (excerpt)：

カルボキシル基とオレフィン二重結合の両方を含む酸で化学修飾した金属アルコキシドと、ポリジメチルシロキサンから構成される無機・有機融合体であることを特徴とする三次元光導波路用材料。

IPC (2)：

G02B 6/12 , G02B 6/13

FI (2)：

G02B 6/12 N , G02B 6/12 M

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

特開平2-137737
特開平2-137737
プラスチック光導波路用組成物およびプラスチック光導波路の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-174379 Applicant：富士通株式会社

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