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J-GLOBAL ID:200903009993185054
放電プラズマ形成用電極
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005047580
Publication number (International publication number):2006236697
Application date: Feb. 23, 2005
Publication date: Sep. 07, 2006
Summary:
【課題】放電プラズマの均一性が高い放電プラズマ形成用電極、およびそれを用いたプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】1ターン以上の螺旋溝を形成した棒またはパイプを巻芯として、電極となる金属チューブを前記螺旋溝に巻きつけて作製することで形状精度を高めた螺旋状電極を作製し、得られた螺旋状電極を二本用いて一組の二重螺旋状に嵌合した、二重螺旋状のプラズマ形成用電極を用いる。【選択図】なし
Claim (excerpt):
放電プラズマ発生装置に用いる、一対の金属チューブを用いた二重螺旋状の電極であって、螺旋のピッチが螺旋の内径よりも長くかつ螺旋のピッチのばらつきが3%以下である、均一なプラズマを発生させることができる二重螺旋状電極。
IPC (2):
FI (3):
H05H1/24
, C08J7/00 306
, C08J7/00
F-Term (11):
4F073AA01
, 4F073BA07
, 4F073BA08
, 4F073BA13
, 4F073BA16
, 4F073BA19
, 4F073BA20
, 4F073BA24
, 4F073BA28
, 4F073BA33
, 4F073CA01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (6)
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プラスチックチューブ内面の処理方法と連続処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-116459
Applicant:イーシー化学株式会社, 岡崎幸子, 小駒益弘, 科学技術振興事業団
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誘導結合プラズマ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-317192
Applicant:富士電機株式会社
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プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-180835
Applicant:東京応化工業株式会社
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