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J-GLOBAL ID：200903010022151194

レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor：
水谷 一良

About 水谷 一良


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (4)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005026780
Publication number (International publication number)：2006215202
Application date： Feb. 02, 2005
Publication date： Aug. 17, 2006
Summary：
【課題】 感度と解像性に優れ、更には表面荒れやアウトガスも抑制したレジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)下記一般式(I)で表される酸発生剤を含有することを特徴とするレジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 【化1】一般式(1)中、 Rは脂肪族基またはヘテロ原子を有していてもよい芳香族基を表す。 S1〜S8は各々独立に置換基を表す。a、n、m、l、k、o、p、q、rは各々独立に0〜2の整数を表す。 Xは単結合または2価の連結基を表す。 R1およびR2は各々独立に水素原子または置換基を表す。R1とR2とが互いに連結して単結合または2価の連結基を表しても良い。 Y-、Z-は各々独立に有機スルホン酸アニオンを表す。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
(A1)下記一般式(1)で表される酸発生剤を含有することを特徴とするレジスト組成物。
IPC (4)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (4)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
F-Term (17)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025CB42 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (3)
  • レジスト組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-260267   Applicant：富士写真フイルム株式会社
  • レジスト組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-261401   Applicant：富士写真フイルム株式会社
  • 電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-250484   Applicant：富士写真フイルム株式会社

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