研磨用組成物

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999188562
Publication number (International publication number)：2001011433
Application date： Jul. 02, 1999
Publication date： Jan. 16, 2001
Summary：

【要約】【課題】研磨特性の優れた研磨用組成物を提供すること。【解決手段】研磨対象物をアルミニウムディスク、シリカを表面に有する基板のシリカ、並びに半導体ウェハーとする、シリカゾルを含む研磨用組成物において、シリカゾルが、平均粒子径10〜120nmの球状コロイダルシリカ粒子とこの球状コロイダルシリカ粒子を接合する金属酸化物含有シリカからなり、球状コロイダルシリカ粒子が一平面内のみにつながった数珠状コロイダルシリカ粒子が水中に分散した安定なシリカゾルであること、及び該数珠状コロイダルシリカ粒子を、0.5〜50重量%のSiO2 濃度に有することを特徴とする研磨用組成物。

Claim (excerpt)：

シリカゾルを含むアルミニウムディスクの研磨用組成物において、シリカゾルが、平均粒子径10〜120nmの球状コロイダルシリカ粒子とこの球状コロイダルシリカ粒子を接合する金属酸化物含有シリカからなり、動的光散乱法による測定粒子径(D1nm)と球状コロイダルシリカ粒子の平均粒子径(窒素吸着法による測定粒子径/D2nm)の比D1/D2が3以上であって、このD1は50〜800nmであり、球状コロイダルシリカ粒子が一平面内のみにつながった数珠状コロイダルシリカ粒子が水中に分散した安定なシリカゾルであること、及び該数珠状コロイダルシリカ粒子を、0.5〜50重量%のSiO2 濃度に有することを特徴とするアルミニウムディスクの研磨用組成物。

IPC (4)：

C09K 3/14 550 , C09K 3/14 , B24B 37/00 , H01L 21/304 622

FI (4)：

C09K 3/14 550 D , C09K 3/14 550 Z , B24B 37/00 H , H01L 21/304 622 D

F-Term (10)：

3C058AA07 , 3C058CA01 , 3C058CA04 , 3C058CA05 , 3C058CA06 , 3C058CB01 , 3C058CB03 , 3C058CB10 , 3C058DA02 , 3C058DA17

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

特開平1-317115
特開平1-294515
特開平4-065314

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