オゾン処理方法および処理装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：森本義弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999094430
Publication number (International publication number)：2000288562
Application date： Apr. 01, 1999
Publication date： Oct. 17, 2000
Summary：

【要約】【課題】オゾン処理に随伴する臭素酸イオンの生成を抑制する。【解決手段】臭素イオンを含んだ被処理水にオゾン注入して有機物等の処理対象物をオゾン酸化するに際し、含オゾン被処理水にUV照射することにより過剰のオゾンを分解し、臭素酸イオンの生成を抑制する。

Claim (excerpt)：

被処理水にオゾン注入して有機物等の処理対象物をオゾン酸化するに際し、オゾン処理水にUV照射することにより過剰のオゾンを分解し、溶存臭素からの臭素酸イオンの生成を抑制することを特徴とするオゾン処理方法。

IPC (2)：

C02F 1/78 , C02F 1/32

FI (2)：

C02F 1/78 , C02F 1/32

F-Term (22)：

4D037AA01 , 4D037AB04 , 4D037AB11 , 4D037AB13 , 4D037AB14 , 4D037BA18 , 4D037BB05 , 4D037CA02 , 4D037CA08 , 4D037CA12 , 4D050AA03 , 4D050AB04 , 4D050AB11 , 4D050AB16 , 4D050AB19 , 4D050BB02 , 4D050BC09 , 4D050BD02 , 4D050BD03 , 4D050BD06 , 4D050CA15 , 4D050CA16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

オゾン分解方法とその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-199546 Applicant：株式会社明電舎
水処理方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-295708 Applicant：富士電機株式会社

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