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J-GLOBAL ID:200903010130342281

有機膜の形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998371502
Publication number (International publication number):2000195665
Application date: Dec. 25, 1998
Publication date: Jul. 14, 2000
Summary:
【要約】【課題】転写を利用した新規な有機膜の形成方法を提供する。【解決手段】基板5の被成膜面50の上に有機膜8を形成する方法である。有機系の膜形成物質31を担持した転写材3を用い、転写材3を基板5の被成膜面50に対面させて配置する。加熱手段2で膜形成物質31を加熱して膜形成物質31を基板5の被成膜面50に転写する。加熱手段2としてはホットプレート、レーザビーム、電子ビームを採用できる。
Claim (excerpt):
基板の被成膜面の上に有機膜を形成する方法において、有機系の膜形成物質を担持した転写材を前記基板の被成膜面に対面させて配置し、加熱手段で前記膜形成物質を加熱して前記膜形成物質を前記基板の被成膜面に転写することを特徴とする有機膜の形成方法。
IPC (4):
H05B 33/10 ,  C23C 14/04 ,  C23C 14/12 ,  H05B 33/14
FI (4):
H05B 33/10 ,  C23C 14/04 C ,  C23C 14/12 ,  H05B 33/14 A
F-Term (11):
3K007AB18 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  4K029AA25 ,  4K029BA62 ,  4K029BC07 ,  4K029BD10 ,  4K029CA01 ,  4K029DB20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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