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J-GLOBAL ID:200903010286940073
配線付き基体形成用積層体、配線付き基体およびその形成方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
渡辺 望稔 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001245934
Publication number (International publication number):2003058079
Application date: Aug. 14, 2001
Publication date: Feb. 28, 2003
Summary:
【要約】【課題】低抵抗でパターニング性能に優れ、かつ、紫外線照射による洗浄などで発生するオゾンに対して耐性の高い、配線付き基体形成用積層体、配線付き基体およびその形成方法の提供。【解決手段】基体上にAgまたはAg合金からなる層2aと、その上に、CuまたはCu合金からなる層2bとを有する配線付き基体形成用積層体と、配線付き基体およびその形成方法。
Claim (excerpt):
基体上にAgまたはAg合金からなる層と、その上に、CuまたはCu合金からなる層とを有する配線付き基体形成用積層体。
IPC (8):
G09F 9/30 330
, G09F 9/30 310
, G09F 9/30 365
, G02F 1/1343
, G09F 9/35
, H05B 33/10
, H05B 33/14
, H05B 33/26
FI (8):
G09F 9/30 330 Z
, G09F 9/30 310
, G09F 9/30 365 Z
, G02F 1/1343
, G09F 9/35
, H05B 33/10
, H05B 33/14 A
, H05B 33/26 Z
F-Term (32):
2H092GA25
, 2H092GA34
, 2H092HA06
, 2H092JA24
, 2H092MA05
, 2H092MA13
, 2H092MA17
, 2H092NA28
, 2H092PA01
, 3K007AB00
, 3K007AB05
, 3K007AB12
, 3K007CA00
, 3K007CA01
, 3K007CA02
, 3K007CA04
, 3K007CA05
, 3K007CB01
, 3K007DA00
, 3K007DB03
, 3K007EB00
, 3K007FA01
, 5C094AA31
, 5C094AA32
, 5C094AA37
, 5C094BA27
, 5C094BA43
, 5C094CA19
, 5C094DA14
, 5C094EA04
, 5C094EA07
, 5C094FB12
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
-
エッチング方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-308978
Applicant:株式会社日立製作所
-
回路基板の積層構造および回路パターンの形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-293811
Applicant:三菱マテリアル株式会社
-
電子源基板及びその製造方法及び電子源基板を用いた画像形成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-045017
Applicant:キヤノン株式会社
-
有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板および有機エレクトロルミネッセンス表示素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-356936
Applicant:凸版印刷株式会社
-
有機電界発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-050065
Applicant:株式会社クラレ
-
表示装置の実装構造及び実装方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-196416
Applicant:シャープ株式会社
-
液晶表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-336966
Applicant:畑村洋太郎, シャープ株式会社
-
半導体装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-069268
Applicant:シチズン時計株式会社
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