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J-GLOBAL ID：200903010830999079

LiMn2O4薄膜の合成方法、リチウム電池の製造方法及びスパッタ装置

Inventor：
伊藤 泰充

About 伊藤 泰充


Applicant, Patent owner：
スズキ株式会社

About スズキ株式会社


Agent (1)： 奥山 尚男 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999178118
Publication number (International publication number)：2001011611
Application date： Jun. 24, 1999
Publication date： Jan. 16, 2001
Summary：
【要約】【課題】 リチウム電池の正極材料となるLiMn2O4薄膜を簡易に得る方法を提供する。【解決手段】 三酸化二マンガンとリチウムをターゲットに含む反応性スパッタを連続して用いるLiMn2O4薄膜の合成方法であって、基板にβ-二酸化マンガンを蒸着する段階、得られたβ-二酸化マンガン薄膜上にリチウムを蒸着する段階、さらにβ-二酸化マンガンを蒸着する段階とを含むLiMn2O4薄膜の作製方法による。
Claim (excerpt)：
三酸化二マンガンとリチウムをターゲットに含む反応性スパッタを連続して用いるLiMn2O4薄膜の合成方法であって、基板にβ-二酸化マンガンを蒸着する段階、得られたβ-二酸化マンガン薄膜上にリチウムを蒸着する段階、さらにβ-二酸化マンガンを蒸着する段階とを含むLiMn2O4薄膜の合成方法。
IPC (4)：
C23C 14/34 ,  H01M 4/02 ,  H01M 4/04 ,  H01M 10/40
FI (6)：
C23C 14/34 A ,  C23C 14/34 C ,  H01M 4/02 C ,  H01M 4/04 Z ,  H01M 10/40 B ,  H01M 10/40 Z
F-Term (34)：
4K029AA02 ,  4K029BA43 ,  4K029BA50 ,  4K029BB02 ,  4K029BC03 ,  4K029BD00 ,  4K029CA05 ,  4K029DA02 ,  4K029DA04 ,  4K029DC03 ,  4K029DC05 ,  4K029DC39 ,  4K029JA02 ,  5H014AA02 ,  5H014AA04 ,  5H014BB08 ,  5H014BB17 ,  5H014CC01 ,  5H014EE05 ,  5H014EE10 ,  5H029AJ14 ,  5H029AK03 ,  5H029AL06 ,  5H029AL12 ,  5H029AM02 ,  5H029AM16 ,  5H029BJ02 ,  5H029BJ03 ,  5H029BJ04 ,  5H029BJ12 ,  5H029BJ14 ,  5H029CJ24 ,  5H029CJ30 ,  5H029DJ07
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
  • 特開平4-006271
  • 特開平4-147970
  • 全固体リチウム電池
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-257603   Applicant：日本電信電話株式会社
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Cited by examiner (7)
  • 特開平4-006271
  • 特開平4-006271
  • 特開平4-147970
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