X線発生装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996209897
Publication number (International publication number)：1998055899
Application date： Aug. 08, 1996
Publication date： Feb. 24, 1998
Summary：

【要約】【課題】真空容器内における飛散粒子の拡散防止により清浄光学面に飛散粒子が付着、堆積しないようにして、その結果、長時間安定して使用できるX線発生装置を提供すること。【解決手段】減圧された真空容器240内において、10μm〜1mmの大きさを有する微粒子状の標的部材200に励起エネルギービーム211を集光照射してプラズマ210を形成し、該プラズマ210からX線を取り出すX線発生装置において、前記微粒子状の標的部材200は、前記励起エネルギービーム211の集光位置に向けて標的部材供給機構201から放出され、該標的部材200が前記集光位置に到達したときに、標的部材200の移動速度が毎秒100m以上であり、かつ、該標的部材200に前記励起エネルギービーム211が集光照射されることを特徴とするX線発生装置。

Claim (excerpt)：

減圧された真空容器内において、10μm〜1mmの大きさを有する微粒子状の標的部材に励起エネルギービームを集光照射してプラズマを形成し、該プラズマからX線を取り出すX線発生装置において、前記微粒子状の標的部材は、前記励起エネルギービームの集光位置に向けて標的部材供給機構から放出され、該標的部材が前記集光位置に到達したときに、標的部材の移動速度が毎秒100m以上であり、かつ、該標的部材に前記励起エネルギービームが集光照射されることを特徴とするX線発生装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

軟X線光源装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-277857 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
特開平2-100297
特開平1-109646

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