Pat

J-GLOBAL ID：200903011035988618

化合物及び該化合物を含有するポジ型レジスト組成物

Inventor： 藤森 亨
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003027161
Publication number (International publication number)：2004238304
Application date： Feb. 04, 2003
Publication date： Aug. 26, 2004
Summary：

【課題】コンタクトホールの真円性向上、矩形なプロファイルの為にポジ型レジスト組成物に好適に使用される化合物、並びに該化合物を含有する、コンタクトホールの真円性、プロファイルが改良されたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】特定構造の化合物、並びに(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)アルカリ現像液に対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ現像液に可溶性となる樹脂及び(C)特定構造の化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

下記一般式(I)で表される化合物。

IPC (4)：

C07D319/06 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (4)：

C07D319/06 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

F-Term (19)：

2H025AA03 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC03 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4C022GA04 ,  4C022GA13

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• ポジ型化学増幅レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-028336   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-370232   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-169802   Applicant：富士写真フイルム株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• Collection of Czechoslovak Chemical Communications (1995), 60(4), 605-611
• Journal of Heterocyclic Chemistry (1993), 30(1), 105-107
• CAPLUS Accession no 1937:5182(CA Accession no. 31:5182)( Science and Culture (1936), 2, 162) Retr