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J-GLOBAL ID:200903011085512908
ポジ型感光性樹脂組成物
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994158400
Publication number (International publication number):1996022118
Application date: Jul. 11, 1994
Publication date: Jan. 23, 1996
Summary:
【要約】【構成】 ポリベンゾオキサゾール前駆体(A)、シリコーンジアミンを全ジアミンの30モル%以上を含むポリアミド酸(B)および下記式の感光性ジアゾキノン(C)を必須成分とするポジ型感光性樹脂組成物において、各成分の配合割合が重量比で(B)/(A)=(1〜100)/100、(C)/(A)=(1〜100)/100であるポジ型感光性樹脂組成物。【化1】【効果】 シリコンウェハー等の基板との密着性に優れ、かつ現像時において高残膜率のパターンを得ることができる。
Claim (excerpt):
ポリベンゾオキサゾール前駆体(A)、一般式(1)で表せられる構造のジアミンを全ジアミンの30モル%以上を含むポリアミド酸(B)および一般式(2)で表される感光性ジアゾキノン(C)を必須成分とするポジ型感光性樹脂組成物において、各成分の配合割合が重量比で(B)/(A)=(1〜100)/100、(C)/(A)=(1〜100)/100であることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。【化1】【化2】
IPC (6):
G03F 7/004 501
, C08K 5/28
, C08L 79/04 LQZ
, C08L 79/08 LRB
, G03F 7/022
, G03F 7/037
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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特開平4-031860
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ポジ型感光性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-165320
Applicant:住友ベークライト株式会社
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特開平4-046345
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特開平3-158856
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特開平4-060548
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特開平4-211255
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特開平4-284454
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特開平4-293050
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ポジ型フオトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-249327
Applicant:東レ株式会社
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迅速なジアゾキノンポジレジスト
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-268469
Applicant:インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
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