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J-GLOBAL ID：200903011087025842

銅粉およびその製造方法、銅ペースト、積層セラミックコンデンサ、並びに銅粉判定方法

Inventor：
伊波 興祐

About 伊波 興祐

, 
藤田 英史

About 藤田 英史


Applicant, Patent owner：
DOWAエレクトロニクス株式会社

About DOWAエレクトロニクス株式会社


Agent (2)： 阿仁屋 節雄 ,  清野 仁
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007253781
Publication number (International publication number)：2009084614
Application date： Sep. 28, 2007
Publication date： Apr. 23, 2009
Summary：
【課題】脂肪酸による表面処理において、充填性が向上し銅ペーストに好適な銅粉、これを用いた銅ペースト、積層セラミックコンデンサを提供する。【解決手段】銅粉を酸性水溶液に分散させたとき、プロトンを引き寄せる官能基が、粒子表面に4.0×1019個/m2以上存在し、pH7において官能基に引き寄せられているプロトンが1.0×1019個/m2以上の銅粉、当該銅粉を用いた銅ペースト、積層セラミックコンデンサを提供する。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
酸性水溶液に分散させたとき、当該酸性水溶液中のプロトンを引き寄せる性質を持つ官能基が表面に4.0×1019個/m2以上存在し、且つ、当該酸性水溶液をpH7の水溶液としたとき、当該官能基に引き寄せられているプロトンが1.0×1019個/m2以上であることを特徴とする銅粉。
IPC (8)：
B22F 1/00 ,  B22F 1/02 ,  B22F 9/24 ,  H01B 5/00 ,  H01B 1/22 ,  H01B 13/00 ,  H01G 4/12 ,  H01G 4/30
FI (9)：
B22F1/00 L ,  B22F1/02 B ,  B22F9/24 B ,  H01B5/00 E ,  H01B1/22 A ,  H01B13/00 501Z ,  H01G4/12 361 ,  H01G4/30 301C ,  H01G4/30 301B
F-Term (23)：
4K017AA03 ,  4K017BA05 ,  4K017DA08 ,  4K017EJ01 ,  4K018BA02 ,  4K018BC29 ,  4K018BD04 ,  5E001AB03 ,  5E001AC09 ,  5E001AF06 ,  5E001AJ01 ,  5E001AJ03 ,  5E082AA01 ,  5E082AB03 ,  5E082BC40 ,  5E082EE26 ,  5E082EE45 ,  5E082GG11 ,  5E082PP03 ,  5G301DA06 ,  5G301DA42 ,  5G301DD01 ,  5G307AA02
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (3)

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