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J-GLOBAL ID:200903011095856540

マイクロ波装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大塚 忠
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006046349
Publication number (International publication number):2007228219
Application date: Feb. 23, 2006
Publication date: Sep. 06, 2007
Summary:
【課題】 導入できるマイクロ波の周波数帯域が狭い負荷に対しマグネトロンで効率よくマイクロ波を導入できる新しい手段を提供する。【解決手段】 周波数特性が優れた低電力の注入波発振装置の出力をマグネトロンに注入してマグネトロンの出力特性を発振周波数とスペクトラムについて大きく改善するとともに、合わせて負荷からの反射をこの注入波発振装置に導入されないようにして、マグネトロン出力を負荷に効率よく安定に導入できる装置を実現した。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
マイクロ波出力がマグネトロンの定格出力に比較して十分小さく出力周波数の帯域幅が3MHz以下である注入波発振装置の出力をサーキュレータを介して前記マグネトロンに注入すると共に、注入波により出力周波数の帯域幅が3MHz以下に制御された前記マグネトロンの出力をサーキュレータを介して負荷に導入し、負荷からの反射電力をサーキュレータを介して無反射終端に導くようにしたことを特徴とするマイクロ波装置。
IPC (5):
H03B 9/10 ,  B01J 19/12 ,  H05B 6/68 ,  H01J 25/50 ,  H03L 7/00
FI (5):
H03B9/10 ,  B01J19/12 A ,  H05B6/68 320Z ,  H01J25/50 ,  H03L7/00 Z
F-Term (18):
3K086AA06 ,  3K086AA07 ,  3K086AA08 ,  3K086AA09 ,  3K086BA07 ,  3K086BA08 ,  4G075AA61 ,  4G075BB10 ,  4G075CA26 ,  4G075CA47 ,  4G075DA04 ,  5J106AA01 ,  5J106CC05 ,  5J106CC06 ,  5J106DD14 ,  5J106GG01 ,  5J106KK05 ,  5J106KK12
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3) Cited by examiner (6)
  • プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2003-017673   Applicant:東京エレクトロン株式会社, 日本高周波株式会社
  • 特開昭57-098997
  • 特開昭60-062092
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