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J-GLOBAL ID:200903011180012904

位置検出装置及び位置検出方法、露光装置、デバイス製造方法並びに基板

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002160299
Publication number (International publication number):2004006527
Application date: May. 31, 2002
Publication date: Jan. 08, 2004
Summary:
【課題】複数のアライメントマークの中からターゲットアライメントマークを識別する。【解決手段】アライメントスコープの視野MF内に複数のアライメントマークL1,M1,N1,O1,P1が存在する。これらの中から、各アライメントマークの4隅に補助パターン領域に補助パターンが存在するか否かに基づいて、ターゲットアライメントマークを識別する。【選択図】図2A
Claim (excerpt):
物体上のマークの位置を検出する位置検出装置であって、 前記物体は、位置検出のためのマーク又はパターンの形成が許容されている領域に、複数の位置検出用マークと、補助パターンとが形成されており、 前記位置検出装置は、補助パターンを利用して複数の位置検出用マークの中から目標とする位置検出用マークを識別する識別部を備えることを特徴とする位置検出装置。
IPC (3):
H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G03F9/00
FI (3):
H01L21/30 525W ,  G01B11/00 H ,  G03F9/00 H
F-Term (16):
2F065AA03 ,  2F065BB27 ,  2F065CC19 ,  2F065FF04 ,  2F065JJ05 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ31 ,  5F046EA10 ,  5F046EA30 ,  5F046EB07 ,  5F046FA10 ,  5F046FA17 ,  5F046FB10 ,  5F046FC04 ,  5F046FC06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
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