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J-GLOBAL ID：200903011207252503

シリコン系材料の洗浄方法

Inventor： 国分 勝則
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 高月 亨
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993189022
Publication number (International publication number)：1995022363
Application date： Jun. 30, 1993
Publication date： Jan. 24, 1995
Summary：

【要約】【目的】 パーティクルやCu等の重金属不純物の吸着を抑制でき、シリコン表面のマイクロラフネスを抑制でき、その結果、酸化膜等を安定なシリコン表面上に形成させることが可能となり、デバイスの歩留りを向上させ、最終的な信頼性も向上させることができるシリコン系材料の洗浄方法を提供する。【構成】 シリコン系材料の洗浄に際し、前段洗浄Iの後の最終洗浄工程IIにフッ酸に塩酸を添加した液を用いる。

Claim (excerpt)：

シリコン系材料の洗浄方法であって、前段洗浄の後の最終洗浄工程に、フッ酸に塩酸を添加した液を用いることを特徴とするシリコン系材料の洗浄方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• シリコンウェーハの洗浄液およびその洗浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-336612   Applicant：三菱マテリアル株式会社, 三菱マテリアルシリコン株式会社
• 半導体基板の洗浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-149496   Applicant：シャープ株式会社