Pat
J-GLOBAL ID:200903011241400104

フッ素含有排水の処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 久保田 藤郎 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000073349
Publication number (International publication number):2001259656
Application date: Mar. 16, 2000
Publication date: Sep. 25, 2001
Summary:
【要約】【課題】 半導体工場などより排出されるフッ素含有排水からフッ素を効率良く除去する方法を提供することを目的とする。【解決手段】 少なくともフッ素イオンとカルシウムイオンとリン酸イオンとを含む排水を、フルオロアパタイト及び/又はヒドロキシアパタイトを懸濁させた水槽1に導入し、該水槽内で膜濾過(膜濾過装置3)により固液分離することを特徴とするフッ素含有排水の処理方法を提供する。
Claim (excerpt):
少なくともフッ素イオンとカルシウムイオンとリン酸イオンとを含む排水を、フルオロアパタイト及び/又はヒドロキシアパタイトを懸濁させた水槽に導入し、該水槽内で膜濾過により固液分離することを特徴とするフッ素含有排水の処理方法。
IPC (2):
C02F 1/58 ,  C02F 1/44 ZAB
FI (2):
C02F 1/58 M ,  C02F 1/44 ZAB E
F-Term (29):
4D006GA02 ,  4D006HA01 ,  4D006HA41 ,  4D006HA71 ,  4D006HA93 ,  4D006JA53A ,  4D006KA02 ,  4D006KA12 ,  4D006KB13 ,  4D006KB30 ,  4D006KD11 ,  4D006KD30 ,  4D006KE12Q ,  4D006KE12R ,  4D006MA01 ,  4D006MA03 ,  4D006MA04 ,  4D006MB09 ,  4D006PA05 ,  4D006PB08 ,  4D006PB28 ,  4D006PC01 ,  4D038AA08 ,  4D038AB39 ,  4D038AB40 ,  4D038AB81 ,  4D038AB83 ,  4D038BA02 ,  4D038BB17
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
Show all

Return to Previous Page