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J-GLOBAL ID：200903011334495717

共焦点顕微鏡

Inventor：
岡本 陽一

About 岡本 陽一


Applicant, Patent owner：
株式会社キーエンス

About 株式会社キーエンス


Agent (1)： 松本 直己
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999113163
Publication number (International publication number)：2000305021
Application date： Apr. 21, 1999
Publication date： Nov. 02, 2000
Summary：
【要約】【課題】 任意の測定ラインに沿う高さ情報の変化を得ることができ、しかも測定に要する時間が短い共焦点顕微鏡を提供する。【解決手段】 光源10から出たレーザ光は、偏光ビームスプリッタ12、水平偏向装置14a、垂直偏向装置14b等を経て、対物レンズ17によって試料wの表面に集光し、表面を走査する。試料wの表面で反射したレーザ光は、上記の光路を逆に辿り、偏光ビームスプリッタ12を通過し、結像レンズ18によって集光され、ピンホールを通過したレーザ光が受光素子19に検出される。処理装置46が、ステージ制御回路40を介して試料wを光軸方向に変位させ、受光量が最大になるときの光軸方向位置を高さデータとして各画素ごとに求める。X方向測定ラインが指定されると、そのY方向位置データが部分偏向停止回路45に与えられ、部分偏向停止回路45は垂直偏向装置14bによるレーザ光の偏向を停止し、そのY方向位置に固定する。
Claim (excerpt)：
対象物に光を照射する光源と前記対象物からの反射光又は透過光を対物レンズを含む光学系を通して受光する受光素子とを含む共焦点光学系、前記対象物を前記光で走査するための走査機構、前記対物レンズの焦点と前記対象物との光軸方向での相対距離を変化させる変位機構、所望の測定ラインを指定する測定ライン指定手段、前記測定ライン指定手段で指定された測定ラインに沿う複数の点に関して、前記対物レンズの焦点と前記対象物との光軸方向での相対距離を変化させながら、各点における前記受光素子の受光量が最大になるときの前記相対距離を前記対象物の表面の高さ情報として求め、前記対象物の表面高さの変化を前記測定ラインに沿って求める処理装置、及び、前記処理装置が求めた前記対象物の表面高さの前記測定ラインに沿う変化を表示する表示装置を備えた共焦点顕微鏡。
IPC (3)：
G02B 21/00 ,  G01B 11/00 ,  G01C 3/06
FI (3)：
G02B 21/00 ,  G01B 11/00 B ,  G01C 3/06 P
F-Term (63)：
2F065AA04 ,  2F065AA06 ,  2F065AA24 ,  2F065AA52 ,  2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065DD06 ,  2F065DD10 ,  2F065FF01 ,  2F065FF10 ,  2F065FF23 ,  2F065FF41 ,  2F065GG02 ,  2F065GG04 ,  2F065GG10 ,  2F065GG22 ,  2F065GG24 ,  2F065HH04 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ25 ,  2F065LL08 ,  2F065LL09 ,  2F065LL30 ,  2F065LL61 ,  2F065MM16 ,  2F065PP12 ,  2F065PP24 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ35 ,  2F065RR09 ,  2F065SS02 ,  2F065SS13 ,  2F065TT02 ,  2F065UU01 ,  2F065UU02 ,  2F065UU06 ,  2F112AB07 ,  2F112BA02 ,  2F112BA05 ,  2F112CA13 ,  2F112DA02 ,  2F112DA08 ,  2F112DA15 ,  2F112DA32 ,  2F112DA40 ,  2F112FA07 ,  2F112FA21 ,  2F112FA35 ,  2F112FA45 ,  2F112GA05 ,  2H052AA08 ,  2H052AB06 ,  2H052AB24 ,  2H052AC04 ,  2H052AC15 ,  2H052AC27 ,  2H052AC34 ,  2H052AF02 ,  2H052AF21
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • 膜厚測定機能付光学顕微鏡
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-166898   Applicant：株式会社キーエンス
  • 光学顕微鏡
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-087605   Applicant：株式会社キーエンス
  • 顕微鏡画像表示装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-225075   Applicant：オリンパス光学工業株式会社
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