化学増幅型ポジ型レジスト組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：久保山隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001104302
Publication number (International publication number)：2002296783
Application date： Apr. 03, 2001
Publication date： Oct. 09, 2002
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】樹脂成分と酸発生剤を含有し、ArFやKrFなどのエキシマレーザーリソグラフィに適した化学増幅型ポジ型レジスト組成物であって、解像度、プロファイル、感度、ドライエッチング耐性、接着性等の性能バランスに優れた組成物。【解決手段】下記の(A)、(B)、(C)の重合単位を有し、それ自体はアルカリに不溶であるが酸の作用でアルカリ可溶となる樹脂、並びに酸発生剤を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。(A)下式(Ia)および(Ib)で示される重合単位から選ばれる少なくとも1種の重合単位、(B)下式(II)で示される重合単位、下式(III)で示される重合単位と無水マレイン酸又は無水イタコン酸から導かれる重合単位からなる重合単位、及び下式(IV)で示される重合単位、から選択される少なくとも1種の重合単位、(C)酸の作用により1部の基が開裂してアルカリ可溶となる重合単位

Claim (excerpt)：

下記の(A)、(B)及び(C)の重合単位を有し、それ自体はアルカリに不溶であるが酸の作用でアルカリ可溶となる樹脂、並びに酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。(A)下式(Ia)および(Ib)で示される重合単位から選ばれる少なくとも1種の重合単位、(式中、R1、R2は互いに独立に水素又はメチルを表し、nは1〜3の数を表す。)(B)下式(II)で示される重合単位、下式(III)で示される重合単位と無水マレイン酸及び無水イタコン酸から選ばれる不飽和ジカルボン酸無水物から導かれる重合単位からなる重合単位、及び下式(IV)で示される重合単位、から選択される少なくとも1種の重合単位、(式中、R3、R7は互いに独立に水素又はメチルを表し、R4は水素又は水酸基を表す。R5及びR6は互いに独立に、水素、炭素数1〜3のアルキル、炭素数1〜3のヒドロキシアルキル、カルボキシル、シアノ若しくは基-COOR7(R7はアルコール残基である)を表すか、又はR5とR6が一緒になって、-C(=O)OC(=O)- で示されるカルボン酸無水物残基を形成する。)(C)酸の作用により一部の基が開裂してアルカリ可溶となる重合単位

IPC (12)：

G03F 7/039 601 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F222/04 , C08F232/04 , C08K 5/00 , C08K 5/17 , C08L 33/06 , C08L 33/14 , C08L 35/00 , C08L 45/00 , H01L 21/027

FI (12)：

G03F 7/039 601 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F222/04 , C08F232/04 , C08K 5/00 , C08K 5/17 , C08L 33/06 , C08L 33/14 , C08L 35/00 , C08L 45/00 , H01L 21/30 502 R

F-Term (63)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA09 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB10 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 4J002BG041 , 4J002BG051 , 4J002BG071 , 4J002BH021 , 4J002BK001 , 4J002DE186 , 4J002EB116 , 4J002EN067 , 4J002EN077 , 4J002EN087 , 4J002EN097 , 4J002EN107 , 4J002EN136 , 4J002EU037 , 4J002EU047 , 4J002EU137 , 4J002EU186 , 4J002EV216 , 4J002EV246 , 4J002EV256 , 4J002EV296 , 4J002EW176 , 4J002FD206 , 4J002FD207 , 4J002GP03 , 4J002GQ05 , 4J100AK31Q , 4J100AK32Q , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AR11Q , 4J100BA03Q , 4J100BA11P , 4J100BA11Q , 4J100BA16Q , 4J100BA20Q , 4J100BC04Q , 4J100BC09Q , 4J100BC09R , 4J100BC53P , 4J100CA05 , 4J100FA03 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-321348 Applicant：富士写真フイルム株式会社
新規なラクトン含有化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパタ-ン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-255167 Applicant：信越化学工業株式会社

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