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J-GLOBAL ID：200903011635432060

角度分解した分光リソグラフィの特徴付けの方法および装置

Inventor： アリー ジェフリー デン ボエフ ,  アルノ ヤン ブレーケル ,  ユーリ ヨハネス ローレンティウス マリア ファン ドムメレン ,  ミルセア デユサ ,  アントワーヌ ガストン マリー キース ,  ポール フランク ルエルマン ,  ヘンリクス ペトルス マリア ペレマンス ,  マウリツ ファン デル シァール ,  セドリック デザイア グロウヴシュトラ ,  マルクス ゲラルデュス マルティヌス ファン クラーイ
Applicant, Patent owner： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
Agent (4)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  田中 正 ,  森 徹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005235188
Publication number (International publication number)：2006060214
Application date： Aug. 15, 2005
Publication date： Mar. 02, 2006
Summary：

【課題】デバイスの製造中に、リソグラフィ技術、およびレンズの開口数が高い瞳面で角度分解スペクトルの測定を使用して、オーバレイおよび格子形状パラメータを測定する方法を提供すること。【解決手段】レンズの開口数が高い瞳面にて、放射線が基板で反射した結果としての角度分解スペクトルを測定することによって、基板の特性を求める装置および方法である。特性は、角度および波長に依存し、TMおよびTE偏光の強度、およびその相対的位相差を含む。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

基板の特性を測定するように構成されたスキャッタメータであって、 開口数が高いレンズと、 基板の表面から反射した放射線ビームの角度分解スペクトルを検出するように構成された検出器とを有し、 基板の特性は、レンズの開口数が高い瞳面にて、反射したスペクトルの特性を複数の角度で同時に測定することによって測定可能であるスキャッタメータ。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  G01N 21/956

FI (3)：

H01L21/30 514E ,  G03F7/20 521 ,  G01N21/956 A

F-Term (8)：

2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051BA08 ,  2G051CA03 ,  2G051CB06 ,  5F046AA17 ,  5F046CB01 ,  5F046DB01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 多数角度分光分析器
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平7-504543   Applicant：サーマ-ウェイブ・インク
• 特許第6772084号
  
• 粒子サイズの分布を測定するための装置及び方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-234586   Applicant：マルベルンインスツルメンツリミテッド
• 特開平1-303721
  
• 半導体装置の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-021685   Applicant：株式会社日立製作所