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J-GLOBAL ID：200903011664591968

電解水の製造方法、洗浄水、及び洗浄方法

Inventor：
澄田 修生

About 澄田 修生


Applicant, Patent owner：
有限会社コヒーレントテクノロジー

About 有限会社コヒーレントテクノロジー


Agent (1)： 宇高 克己
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000003647
Publication number (International publication number)：2001191076
Application date： Jan. 12, 2000
Publication date： Jul. 17, 2001
Summary：
【要約】【課題】 Na+ 等を含むことが無い酸性の還元水を提供することである。【解決手段】 アノード電極を有するアノード室と、カソード電極を有するカソード室と、前記アノード室とカソード室との間に設けられた中間室と、前記アノード室と中間室との間に設けられた隔膜と、前記カソード室と中間室との間に設けられた隔膜とを備えた3室構造の電解装置を用いることにより電解水を製造する方法であって、前記アノード室に水を供給する工程と、前記カソード室に水を供給する工程と、前記中間室に酸および水を供給する工程とを有する。
Claim (excerpt)：
アノード電極を有するアノード室と、カソード電極を有するカソード室と、前記アノード室とカソード室との間に設けられた中間室と、前記アノード室と中間室との間に設けられた隔膜と、前記カソード室と中間室との間に設けられた隔膜とを備えた3室構造の電解装置を用いることにより電解水を製造する方法であって、前記アノード室に水を供給する工程と、前記カソード室に水を供給する工程と、前記中間室に酸および水を供給する工程とを有することを特徴とする電解水の製造方法。
IPC (5)：
C02F 1/46 ,  B08B 3/08 ,  C23G 1/00 ,  C25B 1/00 ,  C25B 9/00
FI (5)：
C02F 1/46 A ,  B08B 3/08 Z ,  C23G 1/00 ,  C25B 1/00 Z ,  C25B 9/00 E
F-Term (47)：
3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AA46 ,  3B201AB01 ,  3B201BB01 ,  3B201BB83 ,  3B201BB92 ,  4D061DA02 ,  4D061DB07 ,  4D061EA02 ,  4D061EB01 ,  4D061EB13 ,  4D061EB17 ,  4D061EB19 ,  4D061EB29 ,  4D061EB30 ,  4D061EB37 ,  4D061EB39 ,  4D061ED12 ,  4D061GA02 ,  4D061GA12 ,  4D061GA22 ,  4D061GA23 ,  4D061GA30 ,  4D061GC12 ,  4K021AB25 ,  4K021BA02 ,  4K021BA04 ,  4K021BA05 ,  4K021BA19 ,  4K021BC01 ,  4K021DB06 ,  4K021DB31 ,  4K021DB53 ,  4K021DC15 ,  4K053PA02 ,  4K053PA03 ,  4K053QA04 ,  4K053RA07 ,  4K053RA15 ,  4K053RA16 ,  4K053RA17 ,  4K053RA18 ,  4K053RA19 ,  4K053RA45 ,  4K053YA11 ,  4K053YA13
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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