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J-GLOBAL ID:200903011986277290
光画像計測装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
三澤 正義
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005085222
Publication number (International publication number):2006266861
Application date: Mar. 24, 2005
Publication date: Oct. 05, 2006
Summary:
【課題】 計測開始要求に対応して迅速に画像計測を開始でき、計測領域決定時にピントの合っていた領域の画像計測を好適に行える光画像計測装置を提供する。【解決手段】 観察光Mが観察用CCDカメラ23に合焦されているとき、計測用CCDカメラ21、22は、観察物点Pの位置から装置側に距離dだけ離れた位置に計測物点Qを有するように配置されている。計測開始スイッチ60が操作されたことに対応して、干渉光移動ステージ50が、計測物点Qを観察物点Pの位置の方向に移動させるように光路長差を変更する。距離dは、静止した干渉計移動ステージ50を一定速度まで加速するのに必要な距離以上とされている。それにより、被測定物体Oの画像計測の開始要求に対応して迅速に画像計測を開始でき、計測領域決定時にピントの合っていた領域、すなわち観察物点の位置の画像計測を行うことができる。【選択図】 図2
Claim (excerpt):
被測定物体を観察光で照明する照明光学系と、
前記被測定物体による前記観察光の反射光を受光して信号を生成する観察用受光手段と、
前記観察光の反射光を前記観察用受光手段に合焦させる観察光合焦手段と、
前記観察用受光手段により生成された信号に基づいて前記被測定物体の観察画像を表示する表示手段と、
前記観察画像を参照して画像計測を開始するときに操作される操作手段と、
前記操作手段が操作されたことに対応して計測光を出射する計測光源と、
前記出射された計測光を前記被測定物体を経由する信号光と参照物体を経由する参照光とに分割する分割手段と、
前記信号光の周波数と前記参照光の周波数とを相対的にシフトさせる周波数シフト手段と、
前記信号光と前記参照光との光路長差を変更して画像計測深度を変更する光路長変更手段と、
前記被測定物体を経由した前記信号光と前記参照物体を経由した前記参照光とを重畳させて干渉光を生成する重畳手段と、
前記生成された干渉光を受光して信号を生成する計測用受光手段と、
前記生成された信号に基づいて前記被測定物体の画像を形成する画像形成手段と、
を備え、
前記計測用受光手段は、前記観察光の反射光が前記観察用受光手段に合焦されているときに、その観察物点の位置から前記信号光の光路方向に所定距離だけ離れた位置に計測物点を有するように配置され、
前記光路長変更手段は、前記操作手段が操作されたことに対応し、前記計測用受光手段の計測物点を前記所定距離だけ離れた前記観察物点の位置の方向に移動させるように前記光路長差を変更する、
ことを特徴とする光画像計測装置。
IPC (2):
FI (3):
G01N21/17 630
, G01B11/24 K
, G01B11/24 D
F-Term (51):
2F065AA51
, 2F065AA60
, 2F065BB05
, 2F065CC16
, 2F065DD04
, 2F065FF04
, 2F065FF41
, 2F065FF52
, 2F065GG07
, 2F065GG21
, 2F065HH03
, 2F065HH04
, 2F065HH09
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065LL00
, 2F065LL09
, 2F065LL12
, 2F065LL20
, 2F065LL33
, 2F065LL35
, 2F065LL36
, 2F065LL37
, 2F065MM07
, 2F065NN06
, 2F065NN08
, 2F065QQ14
, 2F065QQ23
, 2F065QQ24
, 2F065QQ25
, 2F065SS02
, 2F065SS03
, 2F065SS09
, 2F065SS13
, 2G059AA06
, 2G059BB12
, 2G059EE01
, 2G059EE02
, 2G059EE09
, 2G059FF02
, 2G059GG02
, 2G059GG08
, 2G059GG09
, 2G059JJ11
, 2G059JJ13
, 2G059JJ19
, 2G059JJ22
, 2G059KK04
, 2G059LL01
, 2G059MM10
, 2G059PP04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (7)
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内視鏡装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-196206
Applicant:旭光学工業株式会社
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光コヒーレンストモグラフィーにおける光干渉計一体駆動による検知点走査方法及び光コヒーレンストモグラフィー装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-357727
Applicant:丹野直弘
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光イメージング装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-237076
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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光断層内視鏡装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-240826
Applicant:ペンタックス株式会社
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光断層イメージング装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-367815
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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光イメージング装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-339787
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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光学的イメージを形成するシステム、方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-196762
Applicant:マサチューセッツ・インステチュート・オブ・テクノロジー
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