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J-GLOBAL ID:200903098780755607
2次元光ヘテロダイン検出法を用いた光画像計測装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
清水 守
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000153919
Publication number (International publication number):2001330558
Application date: May. 25, 2000
Publication date: Nov. 30, 2001
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 光信号の並列検出を有効に行うことができる2次元光ヘテロダイン検出法を用いた光画像計測装置を提供する。【解決手段】 光ビームを出射する光源1から出射された光ビームを、信号光と参照光とに二分するとともに、信号光と参照光とを互いに重畳することにより干渉光を生成する干渉光学系と、この干渉光学系が、信号光の周波数と参照光の周波数を相対的にシフトさせる周波数シフタと、干渉光学系が、干渉光を受光するために、干渉光を二分割して、二分割された干渉光を周期的に遮断することにより、互いの位相差が90度である2列の干渉光パルスを生成する光遮断装置7,9と、2列の干渉光パルスをそれぞれ受光する光センサ8,10と光センサで得られた複数の受光信号を統合して被検体配置位置に配置された被検体5の表面もしくは内部層の、信号光の伝搬経路上の各関心点に対応する信号を生成する信号処理部を具備する。
Claim (excerpt):
(a)光ビームを出射する光源と、(b)該光源から出射された光ビームを、被検体が配置される被検体配置位置を経由する信号光と、前記被検体配置位置を経由する光路とは異なる光路を経由する参照光とに二分するとともに、前記被検体配置位置を経由した後の信号光と、前記異なる光路を経由した参照光とを互いに重畳することにより干渉光を生成する干渉光学系と、(c)該干渉光学系が、前記信号光の周波数と前記参照光の周波数を相対的にシフトさせる周波数シフタと、(d)前記干渉光学系が、前記干渉光を受光するために、前記干渉光を二分割して、さらに、該二分割された干渉光を周期的に遮断することにより、互いの位相差が90度である2列の干渉光パルスを生成する光遮断装置と、(e)前記2列の干渉光パルスをそれぞれ受光する光センサと、(f)該光センサが、空間的に配列され、それぞれが独立に受光信号を得る複数の受光素子を有するものであり、前記光センサで得られた複数の受光信号を統合して前記被検体配置位置に配置された被検体の表面もしくは内部層の、前記信号光の伝搬経路上の各関心点に対応する信号を生成する信号処理部を具備することを特徴とする2次元光ヘテロダイン検出法を用いた光画像計測装置。
IPC (3):
G01N 21/17 630
, G01B 11/24
, G01N 21/27
FI (3):
G01N 21/17 630
, G01N 21/27 H
, G01B 11/24 D
F-Term (36):
2F065AA53
, 2F065DD06
, 2F065FF52
, 2F065GG07
, 2F065HH03
, 2F065HH13
, 2F065JJ03
, 2F065JJ05
, 2F065JJ09
, 2F065JJ26
, 2F065LL03
, 2F065LL04
, 2F065LL13
, 2F065LL30
, 2F065LL46
, 2F065LL57
, 2F065NN06
, 2F065NN08
, 2F065QQ03
, 2F065QQ16
, 2G059AA05
, 2G059BB12
, 2G059EE09
, 2G059FF01
, 2G059GG01
, 2G059GG02
, 2G059JJ11
, 2G059JJ13
, 2G059JJ17
, 2G059JJ20
, 2G059JJ22
, 2G059JJ23
, 2G059JJ30
, 2G059KK04
, 2G059MM01
, 2G059MM09
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
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2次元光ヘテロダイン走査検出システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-084638
Applicant:科学技術振興事業団
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鉛直断面画像測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-084636
Applicant:科学技術振興事業団
-
分光学的断面画像測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-084639
Applicant:科学技術振興事業団
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